[发明专利]一种光取出材料、发光器件、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202111272005.6 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN113980008A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 张东旭;陈磊;陈雪芹;梁丙炎;王丹 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C07D405/14 分类号: C07D405/14;C07D413/10;C07D413/14;C07D417/10;C07D417/14;H01L51/54;H01L51/52;H01L51/50
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 李红标
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 取出 材料 发光 器件 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种光取出材料,其特征在于,包括:

三嗪化合物,所述三嗪化合物中具有支链,所述支链上具有苯并五元杂环化合物、含N杂环、联苯和稠环中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的光取出材料,其特征在于,所述三嗪化合物的结构式为:

其中,Ar1和Ar2可相同或不同,且Ar1和Ar2中含有式(II)和式(III)中的至少一种结构:

Ar1~Ar7不为(II)或(III)结构时,Ar1~Ar7为C6~C60的芳基、C10~C60的稠和芳基、C5~C60的五元或者六元的芳杂环;

X1和X2为CR2、O、N、NR2或S;

Y为C或N,其中Y不全为C;

R1、R2、R3为氢、重氢、卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1~C30的烷基、取代或未取代的C2~C30的烯基、取代或未取代的C1~C30的烷氧基、取代或未取代的C1~C30的硫醚基、取代或未取代的C6~C50的芳基、由取代或未取代的C2~C9的环结构形成的C2~C50的杂芳基。

L1和L2为氢、取代或未取代的C6~C50的亚芳基、取代或未取代的C2~C50的杂芳基。

3.根据权利要求2所述的光取出材料,其特征在于,Ar4~Ar7中的相邻两者可相互连接成六元环,且连接成的六元环中至少存在一个稠和的六元环。

4.根据权利要求3所述的光取出材料,其特征在于,所述六元环上的氢可被Ar3取代,Ar3为卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1~C30的烷基、取代或未取代的C2~C30的烯基、取代或未取代的C1~C30的烷氧基、取代或未取代的C1~C30的硫醚基、取代或未取代的C6~C50的芳基、由取代或未取代的C2~C9的环结构形成的C2~C50的杂芳基。

5.根据权利要求1所述的光取出材料,其特征在于,所述三嗪化合物的结构式为:

其中,Ar1和Ar2中含有式(II)和式(III)中的至少一种结构:

Ar1~Ar3不为(II)或(III)结构时,Ar1~Ar3为C6~C60的芳基、C10~C60的稠和芳基、C5~C60的五元或者六元的芳杂环;

X1和X2为CR2、O、N、NR2或S;

Y为C或N,其中Y不全为C;

R1、R2、R3为氢、重氢、卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1~C30的烷基、取代或未取代的C2~C30的烯基、取代或未取代的C1~C30的烷氧基、取代或未取代的C1~C30的硫醚基、取代或未取代的C6~C50的芳基、由取代或未取代的C2~C9的环结构形成的C2~C50的杂芳基。

L1和L2为氢、取代或未取代的C6~C50的亚芳基、取代或未取代的C2~C50的杂芳基。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的光取出材料,其特征在于,所述三嗪化合物的结构式为:

7.根据权利要求2-5中任一项所述的光取出材料,其特征在于,所述(II)的结构式为:

8.根据权利要求2-5中任一项所述的光取出材料,其特征在于,所述(III)的结构式为:

9.根据权利要求1所述的光取出材料,其特征在于,所述光取出材料的玻璃化转变温度为132℃-145℃。

10.根据权利要求1所述的光取出材料,其特征在于,所述光取出材料在460nm波长下的折射率为2.04-2.63;和/或

所述光取出材料在530nm波长下的折射率为1.98-2.45;和/或

所述光取出材料在620nm波长下的折射率为1.92-2.36。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111272005.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top