[发明专利]一种表面清洁装置及清洁方法在审

专利信息
申请号: 202111230167.3 申请日: 2021-10-21
公开(公告)号: CN115998180A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 宋宏超;李永民 申请(专利权)人: 北京赫特智慧科技有限公司
主分类号: A47L1/02 分类号: A47L1/02;A47L11/38;A47L11/40;E04G23/00
代理公司: 北京市天元律师事务所 16010 代理人: 郑胜昌
地址: 100000 北京市西城*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 清洁 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种表面清洁装置,其特征在于,包括:

第一主机,包括第一吸附单元和第一清洁单元,所述第一吸附单元用于与待清洁表面之间界定出第一空间;

第二主机,包括第二吸附单元和第二清洁单元,所述第二吸附单元用于与待清洁表面之间界定出第二空间;

第一连杆,所述第一连杆的第一端与所述第一主机通过第一枢轴转动连接;

第二连杆,所述第二连杆的第一端与所述第二主机通过第二枢轴转动连接,所述第一连杆的第二端和所述第二连杆的第二端通过第三枢轴转动连接;

真空模组,用于连通所述第一空间,使得所述第一空间产生负压,和/或连通所述第二空间,使得所述第二空间产生负压;

驱动模组,用于驱动所述第一清洁单元相对所述第一连杆转动,和/或驱动所述第二清洁单元相对所述第二连杆转动。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述驱动模组,还用于驱动所述第一连杆和所述第二连杆以所述第三枢轴为中心轴相对转动。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述真空模组包括:

第一真空装置,所述第一真空装置用于连通所述第一空间,使得所述第一空间产生负压;

第二真空装置,所述第二真空装置用于连通所述第二空间,使得所述第二空间产生负压。

4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述真空模组包括:

第一气阀;

第二气阀;

第三真空装置,通过所述第一气阀连通所述第一空间,通过所述第二气阀连通所述第二空间;

其中,当所述第一气阀打开时,所述第三真空装置与所述第一空间连通,使得所述第一空间产生负压;当所述第二气阀打开时,所述第三真空装置与所述第二空间连通,使得所述第二空间产生负压。

5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述驱动模组,包括:

第一驱动装置,用于驱动所述第一清洁单元相对所述第一连杆转动;

第二驱动装置,用于驱动所述第二清洁单元相对所述第二连杆转动。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述驱动模组,还包括:

第三驱动装置,用于驱动所述第一连杆和所述第二连杆以所述第三枢轴为中心轴相对转动。

7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述驱动模组,包括:

第一传动装置;

第二传动装置;

第四驱动装置,通过所述第一传动装置与所述第一清洁单元相连,用于通过所述第一传动装置驱动所述第一清洁单元相对所述第一连杆转动;以及通过所述第二传动装置与所述第二清洁单元相连,用于通过所述第二传动装置驱动所述第二清洁单元相对所述第二连杆转动。

8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述驱动模组,还包括:

第三传动装置;

所述第四驱动装置,通过所述第三传动装置与所述第一连杆和所述第二连杆相连,用于通过所述第三传动装置驱动所述第一连杆和所述第二连杆以所述第三枢轴为中心轴相对转动。

9.一种清洁方法,其特征在于,应用于权利要求1-8任一项所述的表面清洁装置,所述方法包括执行第一清洁步骤,所述第一清洁步骤包括:

控制所述第一主机吸附在待清洁表面,且所述第一主机与所述待清洁表面保持相对静止;

控制所述第二主机在以所述第一主机为中心的扇形区域或圆形区域内运动,通过所述第二清洁单元对以所述第一主机为中心的扇形区域或圆形区域进行清洁。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在,还包括执行第二清洁步骤,所述第二清洁步骤包括:

控制所述第二主机吸附在待清洁表面,且所述第二主机与所述待清洁表面保持相对静止;

控制所述第一主机在以所述第二主机为中心的扇形区域或圆形区域内运动,通过所述第一清洁单元对以所述第二主机为中心的扇形区域或圆形区域进行清洁。

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