[发明专利]一种覆膜砂壳膜铸造用T形冒口

权利要求书

1.一种覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，包括依次相连的第一部分、第二部分、第三部分和第四部分，其中，所述第一部分呈圆台状，所述第一部分的相对应的两侧向内收缩后与第二部分的两侧连接，且所述第二部分的两侧呈圆弧状，所述第一部分的另外相对应的两侧向下延伸分别形成所述第二部分的非圆弧状的两侧，所述第三部分呈腰圆状，所述第三部分的长边部分与所述第二部分的圆弧状的部分连接，所述第二部分的非圆弧状的两侧继续向下延伸形成所述第三部分圆弧状的两侧，所述第三部分的底部的四个侧边分别向内弯曲收缩后形成第四部分，所述第四部分的底部呈闭合状态，且所述第三部分的两侧的长边部分别对称开设有圆台状的冒口颈。

2.根据权利要求1所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第二部分、第三部分和第四部分的高度之和是所述T形冒口总高度的0.5~0.7倍。

3.根据权利要求2所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第四部分的底部距离所述冒口颈的中心轴线的垂直高度是所述第二部分、第三部分和第四部分的高度之和的0.4~0.6倍。

4.根据权利要求3所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第三部分的底部的最大水平长度与所述第二部分、第三部分和第四部分的高度之和相等。

5.根据权利要求4所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第三部分的底部的宽度是所述T形冒口总高度的0.3~0.5倍。

6.根据权利要求5所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第四部分的在长度方向的弧径是所述T形冒口总高度的0.15~0.25倍。

7.根据权利要求6所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第四部分的在宽度方向的弧径是所述T形冒口总高度的0.05~0.15倍。

8.根据权利要求7所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第二部分的圆弧部分的弧径与所述第四部分的在宽度方向的弧径相等。

9.根据权利要求8所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述第一部分的斜度为87度。

10.根据权利要求1-9任一项权利要求所述的覆膜砂壳膜铸造用T形冒口，其特征在于，所述覆膜砂壳膜铸造用T形冒口的制作方法采用以下关系式：

H₁为已知高度；

H₂=0.5~0.7H₁；

H₃=0.4~0.6H₂；

W₁=H₂；

W₂=0.3~0.5H₁；

R₁=0.15~0.25H₁；

R₂=0.05~0.15H₁；

其中，

H₁为T形冒口的总高度；

H₂为第二部分、第三部分和第四部分的高度之和；

H₃为第四部分的底部距离冒口颈的中心轴线的垂直高度；

W₁为第三部分的底部的最大水平长度；

W₂为第三部分的底部的宽度；

R₁为第四部分的在长度方向的弧径；

R₂为第四部分的在宽度方向的弧径或者为第二部分的圆弧部分的弧径。