[发明专利]滑动构件在审

专利信息
申请号: 202111145902.0 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN114542600A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李娜;安田绘里奈 申请(专利权)人: 大同金属工业株式会社
主分类号: F16C33/20 分类号: F16C33/20;F16N11/00
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 袁波;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 滑动 构件
【权利要求书】:

1.一种滑动构件,

在轴承合金层的滑动面侧具有由树脂形成的覆盖层,

当将所述覆盖层的所述滑动面的谷区平均空体体积Vvv(μm3/μm2)设为Vv1时,

所述Vv1满足:

0.015≤Vv1≤0.200。

2.根据权利要求1所述的滑动构件,其中,

所述Vv1满足:

0.020≤Vv1≤0.160。

3.根据权利要求1或2所述的滑动构件,其中,

当将所述滑动面的谷区平均深度Svk设为Sv1时,

在所述Sv1与所述Vv1之间如下关系成立:

Sv1=10×Vv1-0.1(±0.3)。

4.根据权利要求1所述的滑动构件,其中,

当将所述滑动面的峰区平均材料体积Vmp(μm3/μm2)设为Vm1时,

所述Vm1满足:

0.010≤Vm1≤0.080。

5.根据权利要求1所述的滑动构件,其中,

当将所述滑动面的峰区平均高度Spk(μm)设为Sp1时,

所述Sp1满足:

0.100≤Sp1≤1.500。

6.根据权利要求1所述的滑动构件,其中

当将所述滑动面的界面扩展面积比Sdr(-)设为Sd1时,

所述Sd1满足:

0.000≤Sd1≤0.100。

7.根据权利要求1所述的滑动构件,其中,

当将所述轴承合金层的所述覆盖层侧的端面的谷区平均空体体积Vvv(μm3/μm2)设为Vv2、将谷区平均深度Svk(μm)设为Sv2时,

所述Vv2和所述Sv2分别满足:

0.010≤Vv2≤0.100、

0.100≤Sv2≤1.000。

8.根据权利要求7所述的滑动构件,其中,

所述Vv2和所述Sv2分别满足:

0.020≤Vv2≤0.059

0.150≤Sv2≤0.480。

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