[发明专利]一种镀膜玻璃的制备方法

说明书

本发明涉及一种镀膜玻璃的制备方法，其包括如下步骤：S1、采用磁控溅射工艺，在基板玻璃一表面镀设第一减反层；S2、在第一减反层上镀设多个复合镀层，多个复合镀层依次镀设，每一个复合镀层包括依次设置的电介质层、银层、介质保护层，其中，镀设靠近第一减反层的首个复合镀层时，在第一减反层上由内向外依次镀设电介质层、银层、介质保护层；镀设其它复合镀层时，相邻两个复合镀层的介质保护层与电介质层相邻设置；S3、在复合镀层的最外层上镀设功能层；S4、在功能层上镀设第二减反层。本发明通过磁控溅射第一减反层、多个复合镀层、功能层、第二减反层，大大降低镀膜玻璃的可见光反射率，降低其对周边环境影响，无光污染。

技术领域

本发明属于镀膜玻璃技术领域，具体涉及一种镀膜玻璃的制备方法。

背景技术

为了减轻光污染，上海地区对幕墙玻璃的反射率限制非常严格，导致部分项目要求玻璃的反射率很低，甚至对玻璃的反射率要求为7％以下。同时上海地区的要求也对华东区域市场形成示范效应，像杭州市场也对玻璃的反射率提出了更严格的限制。

但因玻璃在可见光范围内的折射率n＝1.52，根据菲涅尔公算出它的单测反射率大约是4％，使得6毫米单片玻璃总体的可将光反射率大约为8％。而传统的双银，使用常规不具备减反功能的膜层材料，镀膜层内又包含两层功能银层，这些都会使镀膜后的产品可见光反射率高于8％，以上导致双银产品在上海等地区的推广受阻。

经干涉实验验证，在可见光范围内，真实折射率n＝1.23的膜层具有最佳的减反射效果，使用折射率小于玻璃折射率的材料镀在玻璃表面才能减少玻璃表面的可见光反射率，而现市面上已有的LOW-E产品主要是在玻璃基材上镀制具有红外线反射功能的低辐射复合膜层，该复合膜层包含具有红外线反射功能的银Ag层和具有保护银层作用的阻挡层及具有干涉作用的电介质层，氧化钛/氧化锌/氮化硅等均具有较高的折射率，不具备减反射效果，导致现在目前暂时没有反射率低于8的产品。

发明内容

本发明的目的是提供一种镀膜玻璃的制备方法，以解决现有镀膜玻璃产品反射率高的问题。

为达到上述目的，本发明采用的一种技术方案是：

一种镀膜玻璃的制备方法，其包括如下步骤：

S1、采用磁控溅射工艺，在基板玻璃一表面镀设第一减反层；

S2、在第一减反层上镀设多个复合镀层，多个复合镀层依次镀设，每一个所述的复合镀层包括依次设置的电介质层、银层、介质保护层，其中，镀设靠近第一减反层的首个复合镀层时，在第一减反层上由内向外依次镀设电介质层、银层、介质保护层；镀设其它复合镀层时，相邻两个复合镀层的介质保护层与电介质层相邻设置；

S3、在复合镀层的最外层上镀设功能层；

S4、在功能层上镀设第二减反层；

其中，

步骤S1、S4中，磁控溅射第一减反层、第二减反层：均采用氟化镁靶材料在纯氩气氛围中进行溅射；

步骤S2中，磁控溅射电介质层：使用锌、锌锡、硅铝靶材料中的一种或多种在氧氩混合气氛围中进行溅射；

磁控溅射银层：采用银靶材料在纯氩气氛围中进行溅射；

磁控溅射介质保护层：采用镍铬合金靶、氧化锌铝陶瓷靶材料中的一种或多种在纯氩气氛围中进行溅射；

步骤S3中，磁控溅射功能层：使用锌、锌锡、硅铝靶材料中的一种或多种在氧氩混合气氛围中进行溅射。

优选地，步骤S2中，磁控溅射电介质层时，

若溅射氧化锌，使用锌靶材料在氧氩混合气氛围中进行溅射，溅射氩氧混合气比例为氩：氧＝3：4；