[发明专利]一种低勘探程度区优质烃源岩分布的评价方法在审

专利信息
申请号: 202111094760.X 申请日: 2021-09-17
公开(公告)号: CN115822574A 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 王学军;李凤娇;周凯;袁波;齐仁理;周艳;李素华;曾传富 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司中原油田分公司勘探开发研究院
主分类号: E21B49/00 分类号: E21B49/00
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 王凯迪
地址: 457001 河*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 勘探 程度 优质 烃源岩 分布 评价 方法
【说明书】:

发明提供了一种低勘探程度区优质烃源岩分布的评价方法,属于油气勘探领域。现有低勘探程度区岩心样本有限,分析化验数据少,不能准确评价优质烃源岩分布。通过对低勘探程度区内地层的成熟度、丰度进行划分,找出成熟且高有机碳含量烃源岩段作为目标烃源岩段,根据目标烃源岩段的气测录井全烃含量数据确定气测录井全烃含量增大倍数。根据同盆地内与低勘探程度区毗邻的成熟探区的气测录井全烃含量数据,确定在成熟探区中优质烃源岩段的最小的气测录井全烃含量增大倍数作为评价参数。将低勘探程度区中气测录井全烃含量增大倍数大于评价参数的目标烃源岩段,进一步评价,有机质类型为干酪根Ⅰ型和/或干酪根Ⅱ1型的腐泥型烃源岩段为优质烃源岩段。

技术领域

本发明涉及一种低勘探程度区优质烃源岩分布的评价方法,属于油气勘探领域。

背景技术

随着油气勘探程度的不断深化,在成熟探区的勘探难度日益增大,而低勘探程度区钻井密度低,分析化验资料少。武明辉等人的文章《油气区块勘探程度划分方法研究》中提到通常低勘探程度区有二维和三维地震、数十口钻井,由于低勘探程度区油气资源量大、探明率低,油气勘探领域从成熟探区到低勘探程度区的延伸势在必行。

中国工程院院士邓运华在《试论优质烃源岩与大油田的共生关系》中提出为油田作贡献的烃源岩厚度不一定很大,但是有机质丰度很高,品质好。因此低勘探程度区优质烃源岩的识别是勘探过程中首先要解决的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种低勘探程度区优质烃源岩分布的评价方法,用于解决难以在低勘探程度区内确定优质烃源岩垂向发育段和平面分布的问题。

为了实现上述目的,本发明提供了一种低勘探程度区优质烃源岩分布的评价方法,包括如下步骤:

1)获取成熟勘探区中钻井的有机碳含量数据和气测录井全烃含量数据;所述成熟勘探区毗邻低勘探程度区;

2)根据步骤1)中的有机碳含量数据和气测录井全烃含量数据,找出成熟勘探区中优质烃源岩段中的有机碳含量最低的标准烃源岩段,确定所述标准烃源岩段的最小的气测录井全烃含量增大倍数作为评价参数;

所述气测录井全烃含量增大倍数为气测录井全烃含量数据与气测录井全烃含量数据中基值的比值;

3)获取低勘探程度区内钻井的气测录井全烃含量数据,计算低勘探程度区的气测录井全烃含量增大倍数;

4)将低勘探程度区中气测录井全烃含量增大倍数大于评价参数的岩段划分为优质烃源岩段。

进一步地,获取低勘探程度区的镜质体反射率曲线,将镜质体反射率处于设定范围内的岩段标定为成熟烃源岩段;步骤4)中,将低勘探程度区中气测录井全烃含量增大倍数大于评价参数的成熟烃源岩段划分为优质烃源岩段。

1)收集低勘探程度区及与其毗邻内的同盆地成熟探区地质及地震资料。根据低勘探程度区内钻井的岩心样本、测井、录井和地震资料,获取对应的岩心分析化验数据和测井数据,从同盆地内与低勘探程度区毗邻的成熟探区,获取成熟探区内优质烃源岩段有机碳含量数据和气测录井全烃含量数据。其中岩心分析化验数据包括取心深度、有机碳含量、镜质体反射率、热解峰峰顶温度图版等数据,测井数据包括声波时差、电阻率;录井资料包括气测录井全烃含量曲线数据;地震资料包括三维地震数据及地震层位、断层等解释成果。

2)确定低勘探程度区内的成熟烃源岩段。具体做法为获取低勘探程度区的镜质体反射率曲线,将镜质体反射率处于设定范围内的岩段标定为成熟烃源岩段。

进一步地,获取低勘探程度区镜质体反射率曲线的方法为:获取低勘探程度区中岩心样本的岩心分析数据,所述岩心分析数据包括镜质体反射率和深度,根据镜质体反射率与深度的回归方程,计算没有岩心分析数据的岩段的镜质体反射率,得到镜质体反射率曲线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司中原油田分公司勘探开发研究院,未经中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司中原油田分公司勘探开发研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111094760.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top