[发明专利]喷嘴板、流体喷射头、及制造流体喷射头的方法

说明书

一种用于流体喷射装置的流体喷射头的喷嘴板、一种包括所述喷嘴板的流体喷射头、以及一种制造包括所述喷嘴板的所述流体喷射头的方法。所述喷嘴板中包括：两个或多个喷嘴孔阵列；以及阻挡结构，设置在所述喷嘴板的相邻的喷嘴孔阵列之间的暴露表面上，其中，阻挡结构阻止所述相邻的喷嘴孔阵列之间的流体交叉污染。

技术领域

本公开涉及一种用于流体喷射装置的改进的光成像喷嘴构件，以及用于减少从流体喷射装置喷射的流体的交叉污染的方法及结构，尤其涉及一种喷嘴板、流体喷射头、及制造流体喷射头的方法。

背景技术

特别是在医学领域，需要自动化的样本制备以进行分析。分析可为比色分析，或者可要求对样本进行染色，以便在显微镜下更好地观察样本。此种分析可包括药物样本分析、血液样本分析等。举例来说，在血液分析中，血液被分析以提供用于确定个体健康的许多不同因素。当有大量患者需要血液样本分析时，制备用于分析的样本的流程可能极为耗时。此外，需要精确地制备样本，以便使结果可靠。存在需要医学领域及其他领域中的样本制备的许多其他情形，所述样本制备可受益于使用提供精确及可重现结果的分析仪器(例如，对多个样本的微量滴定(micro-titration))。

微井板、载玻片及其他衬底，用于许多实验及实验室流程。对井或点(spotting)填充的过程常常是手动实行的，或者使用昂贵的实验室装备。已开发一种相对便宜的流体喷射装置，用于快速及精确地填充微井板(micro-well plate)中的井以及用于制备载玻片。所述装置包括喷射头，所述喷射头可包含将被分配到微井板的井中或载玻片的一种或多种流体，以实行样本分析。与使用分配多种流体的流体喷射头相关联的一个问题是喷射头的表面上的流体交叉污染的可能性，这导致被污染的流体喷射到微井板的井中或喷射到载玻片上。流体的交叉污染可能导致特定测试无效或提供假阳性和/或假阴性。因此，需要一种用于减少或消除从流体喷射头喷射的流体交叉污染的流体喷射装置的流体喷射头。

发明内容

鉴于前述内容，本公开的实施例提供一种喷嘴板，用于流体喷射装置的流体喷射头。所述喷嘴板中包括：两个或多个喷嘴孔阵列；以及阻挡结构，设置在喷嘴板的相邻的喷嘴孔阵列之间的暴露表面上，其中，所述阻挡结构阻止所述相邻的喷嘴孔阵列之间的流体交叉污染。

本公开的另一实施例提供一种制造用于流体喷射装置的流体喷射头的方法。所述方法包括：将第一负性光刻胶层施加到半导体衬底的装置表面，其中，所述第一负性光刻胶层衍生自包含多官能环氧化合物、第一双官能环氧化合物、不含芳基锍盐的光酸产生剂、增粘剂及芳基酮溶剂的第一光刻胶制剂。在所述第一负性光刻胶层中成像出多个流动特征，并对所成像的第一负性光刻胶层进行显影，以在所述第一负性光刻胶层中提供所述多个流动特征及实质上平坦的厚膜层表面。将第二负性光刻胶层施加到所述厚膜层表面。所述第二负性光刻胶层具有介于10微米至30微米的范围内的厚度且衍生自包含第二双官能环氧化合物、相对高分子量的多羟基醚、所述不含芳基锍盐的光酸产生剂、所述增粘剂及脂族酮溶剂的第二光刻胶制剂。在所述第二负性光刻胶层中成像出多个喷嘴孔，以在所述第二负性光刻胶层中提供至少两个喷嘴孔阵列。对所成像的所述第二负性光刻胶层进行显影，以在所述厚膜层表面上提供光刻胶喷嘴板。将第三负性光刻胶层施加到所述喷嘴板的暴露表面。对所述第三负性光刻胶层进行成像及显影，以在相邻的喷嘴孔阵列之间提供阻挡结构，从而阻止所述相邻的喷嘴孔阵列之间的流体交叉污染。

本公开的另一实施例提供一种用于流体喷射装置的流体喷射头。所述流体喷射头中包括：喷嘴板，具有两个或更多个喷嘴孔阵列；以及阻挡结构，设置在喷嘴板的相邻的喷嘴孔阵列之间的暴露表面上。所述阻挡结构阻止所述相邻的喷嘴孔阵列之间的流体交叉污染。

在一些实施例中，所述喷嘴板由光成像层制成。

在一些实施例中，每一阻挡结构是在层压到所述喷嘴板的光成像层中成像的单个壁。

在一些实施例中，每一阻挡结构由在层压到所述喷嘴板的光成像层中成像的多个壁形成。