[发明专利]一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法

权利要求书

1.一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，所述近红外滤光片膜系结构为Si/SiO₂多谐振腔的法布里-珀罗带通结构，其特征在于包括以下步骤：

1)分别制备Si膜层和SiO₂膜层，获取所述Si膜层和SiO₂膜层的第一光学厚度，进行退火处理；

2)采用透过率光谱包络法获取经退火处理后的所述Si膜层和SiO₂膜层的光学常数及第二光学厚度；

3)根据所述光学常数，计算滤光片的膜系；

4)根据所述第二光学厚度与所述第一光学厚度的变化量，计算所述滤光片的修正监控膜系；

5)在所述修正监控膜系的光学监控下制备所述滤光片，并进行退火处理，制得近红外滤光片。

2.根据权利要求1所述的用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤1)中，采用在真空环境下电子束蒸发工艺制备所述Si膜层和SiO₂膜层。

3.根据权利要求1或2所述的用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤1)中所述退火处理的方法为：在真空环境或保护气体氛围下，将膜层加热到300～400℃并保温2小时，然后自然冷却。

4.根据权利要求1所述的用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤2)中所述光学常数包括折射率n和消光系数k。

5.根据权利要求1所述的用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤4)中所述的修正监控膜系的方法为：将滤光片膜系中各材料膜层乘以相应修正因子，Si膜层的修正因子为1/α_H，SiO₂膜层的修正因子为1/α_L，获得所述滤光片的修正监控膜系；其中，α_H为Si膜层的第二光学厚度与第一光学厚度的比值；α_L为SiO₂膜层的第二光学厚度与第一光学厚度的比值。

6.根据权利要求1所述的用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤5)中，采用电子束蒸发工艺制备所述滤光片膜系中的膜层，在制备过程中使用步骤4)中获得的所述修正监控膜系进行光学监控，完成所述滤光片膜系中的各膜层的沉积，进行退火处理。