[发明专利]一种晶圆清洗的姿态调整装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：包括用于对晶圆进行冲洗的密封机构(1)和用于驱动晶圆旋转的旋转机构(2)以及用于固定晶圆的夹紧机构(3)，所述密封机构(1)内部设置有所述旋转机构(2)，所述旋转机构(2)上安装有所述夹紧机构(3)，所述旋转机构(2)和所述夹紧机构(3)之间设置有调节机构(4)；

所述密封机构(1)包括底座(11)、密封筒(12)、侧向进料管(13)、密封盖(14)，所述底座(11)上端安装有底部固定盘(17)，所述底部固定盘(17)上端连接有所述密封筒(12)，所述密封筒(12)上端面设置有密封盖(14)，所述密封盖(14)上设置有顶部进料管(15)，所述密封筒(12)侧面安装有所述侧向进料管(13)，所述侧向进料管(13)出水端和所述顶部进料管(15)出水端均安装有角度调节座(18)，所述角度调节座(18)上安装有冲洗喷头(16)；

所述旋转机构(2)包括旋转电机(21)、旋转盘(22)、支撑盘(23)、万向节(24)，所述旋转电机(21)安装在所述底座(11)下端面，所述旋转电机(21)输出端连接有所述万向节(24)，所述万向节(24)上端连接有所述旋转盘(22)，位于所述万向节(24)外侧且所述旋转盘(22)下端设置有所述支撑盘(23)，所述支撑盘(23)下端面连接有折叠胶筒(26)，所述折叠胶筒(26)下端连接有固定筒(25)；

所述夹紧机构(3)包括夹紧座(31)、无杆气缸(32)、供压管(33)、供压电磁阀(34)，四个所述夹紧座(31)设置在所述旋转盘(22)上端，所述夹紧座(31)动力端连接有所述无杆气缸(32)，所述无杆气缸(32)功能端连接有集中筒(35)，所述集中筒(35)外侧连接有四个所述供压管(33)，所述供压管(33)外部连接有所述供压电磁阀(34)。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述调节机构(4)包括伸缩气缸(41)、活塞杆(42)，所述支撑盘(23)和所述底部固定盘(17)之间设置有四个所述伸缩气缸(41)，所述伸缩气缸(41)下端连接所述底部固定盘(17)，所述伸缩气缸(41)上设置有所述活塞杆(42)，所述活塞杆(42)连接所述支撑盘(23)。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述调节机构(4)包括伸缩电机(411)、螺杆(412)、螺纹筒(413)，所述支撑盘(23)和所述底部固定盘(17)之间设置有四个所述伸缩电机(411)，所述伸缩电机(411)下端连接所述底部固定盘(17)，所述伸缩电机(411)上设置有所述螺杆(412)，所述螺杆(412)上端连接所述螺纹筒(413)，所述螺纹筒(413)安装在所述支撑盘(23)下端面。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述密封筒(12)通过螺栓连接所述底座(11)，所述密封盖(14)通过合页连接所述密封筒(12)。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述侧向进料管(13)通过密封胶连接所述密封筒(12)，所述顶部进料管(15)通过密封胶连接所述密封盖(14)，所述角度调节座(18)通过螺栓连接所述侧向进料管(13)、所述顶部进料管(15)。

6.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述底部固定盘(17)通过螺栓连接所述底座(11)，所述旋转电机(21)通过螺栓连接所述底部固定盘(17)，所述万向节(24)通过螺栓连接所述支撑盘(23)、所述旋转电机(21)。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述固定筒(25)通过法兰连接所述底部固定盘(17)，所述折叠胶筒(26)通过胶水连接所述固定筒(25)、所述支撑盘(23)。

8.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗的姿态调整装置，其特征在于：所述夹紧座(31)滑动连接所述旋转盘(22)，所述夹紧座(31)内侧面为硅胶材质且内置有压力传感器。