[发明专利]墨、使用该墨的显示装置的制造方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111032012.9 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN114256388A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 沈俊辅;金德起;高孝珍;李昌熙;河在国;洪罗美;姜锺赫;李元镐;任铉德;曹银我 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L27/15;G09F9/30
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 显示装置 制造 方法 以及
【说明书】:

一种用于制造显示装置的墨包括:溶剂;以及发光元件,设置在溶剂中,其中,发光元件包括:第一半导体层,包括第一类型的半导体;以及第二半导体层,包括第二类型的半导体,并且墨的电导率是约1.5μS/m或更小。还提供了一种使用该墨制造显示装置的方法和通过该方法制造的显示装置。

本申请要求于2020年9月22日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0122596号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

发明涉及一种墨、使用该墨制造显示装置的方法以及根据该方法制造的显示装置。

背景技术

随着对信息显示技术的兴趣的增加,已经且正在进一步研究和开发以改善显示装置。而且,已经需要改善的制造显示装置的方法。

发明内容

为了提供墨、使用该墨制造显示装置的方法以及通过该方法制造的显示装置,已经做出实施例。在该方法中,可以简化制造工艺,并且可以改善显示装置中的发光效率。

发明的目的不限于上述目的,使用以下描述,本领域普通技术人员可以清楚地理解未提及的其它技术目的。

在实施例中,用于制造显示装置的墨可以包括:第一溶剂;以及发光元件,设置在第一溶剂中,其中,发光元件可以包括:第一半导体层,包括第一类型的半导体;以及第二半导体层,包括与第一类型不同的第二类型的半导体,并且墨的电导率是约1.5μS/m或更小。

第一溶剂可以包括乙酰柠檬酸三丁酯、柠檬酸三丁酯、三乙酸磷酸酯、乙基邻苯二甲酰乙基乙醇酸酯、丙二醇苯醚、丙二醇甲醚乙酸酯、二乙二醇-丁醚乙酸酯和癸醇中的至少一种。

墨还可以包括与第一溶剂不同的第二溶剂。

第一溶剂的电导率可以比墨的电导率小,并且第二溶剂的电导率比墨的电导率大。

墨的介电常数可以是约8.0或更小。

墨的电导率可以是约1.0μS/m或更小。

墨的电导率可以是约0.8μS/m或更小。

当电场施加到发光元件时,外力可以在第一方向上施加到发光元件的第一半导体层,并且外力可以在与第一方向相反的第二方向上施加到发光元件的第二半导体层。

另一实施例提供了一种制造显示装置的方法,所述方法可以包括以下步骤:准备基底;在基底上形成第一电极和第二电极;在第一电极与第二电极之间设置墨,其中,墨可以包括包含发光元件的第一溶剂;以及在第一电极与第二电极之间形成电场,其中,墨的电导率可以是约1.5μS/m或更小。

在形成电场的步骤中,可以在第一电极与第二电极之间布置发光元件。

发光元件可以包括:第一半导体层,设置为与发光元件的第一端部相邻;以及第二半导体层,设置为与发光元件的第二端部相邻,并且发光元件的在第一端部处的极性可以与发光元件的在第二端部处的极性不同。

在形成电场的步骤中,可以将朝向第一电极的外力施加到第一端部,并且可以将朝向第二电极的外力施加到第二端部。

在形成电场的步骤中,可以旋转发光元件,使得在平面图中第一端部面对第一电极且第二端部面对第二电极。

发光元件可以包括第一发光元件和第二发光元件;在形成电场的步骤中,第一发光元件的第一端部可以与第一电极对应,第一发光元件的第二端部可以与第二电极对应,第二发光元件的第一端部可以与第二电极对应,并且第二发光元件的第二端部可以与第一电极对应;并且第一发光元件的数量可以比第二发光元件的数量大。

第一发光元件与发光元件的数量的比例可以是约0.6或更大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111032012.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top