[发明专利]电光装置和电子设备有效

专利信息
申请号: 202111004375.1 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN114114775B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 色部润 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/157 分类号: G02F1/157;G09G3/3208;G02B27/01
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电光 装置 电子设备
【说明书】:

本发明提供电光装置和电子设备,能够实现光取出效率的提高。本发明的电光装置的特征在于,具有:半透射反射层,其具有反射性和透光性;反射层,其配置在所述基板与所述半透射反射层之间;发光层,其配置在所述反射层与所述半透射反射层之间;以及透镜部,其与像素对应地配置,从所述发光层射出的光入射到该透镜部,在将所述发光层的发光光谱的峰值波长设为λ、将自然数设为m时,所述反射层与所述半透射反射层之间的光学距离L0满足下述的(式1):L0(m+1/2)λ/2(式1)。

技术领域

本发明涉及电光装置和电子设备。

背景技术

已知有具备有机EL(电致发光)元件等发光元件的显示装置等电光装置。

专利文献1所记载的显示装置具有发光元件。该发光元件具有第1电极、具有发光层的有机层以及第2电极。第1电极、有机层和第2电极依次配置。另外,在该显示装置中,在第1电极与有机层的界面和第2电极与有机层的界面之间,具有使由发光层发出的光谐振的光谐振结构。

而且,该显示装置具有透镜部和透明上部基板。在发光元件与透明上部基板之间配置有透镜部。从发光层经由第2电极射出的光穿过透镜部。在该显示装置中,通过透镜部使在透明上部基板与空气的界面发生全反射而无法射出到空气中的光的光路弯曲,从而实现光的取出效率的提高。

专利文献1:日本特开2010-34074号公报

通常,在从法线方向观察显示装置的显示面的情况下,即在视角为0°的情况下,光谐振结构的谐振条件被设定为使得光的强度变得最大。具体而言,在从该法线方向观察的情况下,以从发光元件沿该法线方向射出的光的峰值波长发生谐振的方式,设定光谐振结构所具有的光学距离。但是,若采用这样的光谐振结构,则该法线方向的光的强度最大,因此即使设置透镜部,也无法充分得到透镜部对光的取出效率的提高效果。

发明内容

本发明的电光装置的一个方式的特征在于,具有:半透射反射层,其具有反射性和透光性;反射层,其配置在所述基板与所述半透射反射层之间;发光层,其配置在所述反射层与所述半透射反射层之间;以及透镜部,其与像素对应地配置,从所述发光层射出的光入射到该透镜部,在将所述发光层的发光光谱的峰值波长设为λ、将自然数设为m时,所述反射层与所述半透射反射层之间的光学距离L0满足下述的(式1):

L0(m+1/2)λ/2(式1)。

本发明的电光装置的一个方式的特征在于,具有:基板;半透射反射层,其具有反射性和透光性;反射层,其配置在所述基板与所述半透射反射层之间;发光层,其配置在所述反射层与所述半透射反射层之间;以及透镜部,其与像素对应地配置,从所述发光层射出的光入射到该透镜部,透过所述半透射反射层并朝向相对于所述基板的法线方向倾斜的方向的第1光的强度比透过所述半透射反射层并朝向所述基板的法线方向的第2光的强度大。

本发明的电子设备的一个方式具有:上述电光装置;以及控制部,其控制所述电光装置的动作。

附图说明

图1是示意性地表示第1实施方式的电光装置的俯视图。

图2是图1所示的子像素的等效电路图。

图3是表示元件基板的一部分的俯视图。

图4是图1所示的电光装置的剖视图。

图5是图1所示的电光装置的剖视图。

图6是表示图1所示的电光装置所包含的发光元件的取向特性的图。

图7是用于说明使用了具有基准光学距离的光谐振结构的情况下的光的强度的图。

图8是用于说明使用了具有第1实施方式的光学距离的光谐振结构的情况下的光的强度的图。

图9是表示从电光装置射出的光的角度与强度之间的关系的仿真结果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111004375.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top