[发明专利]鬼像测试方法、鬼像测试系统和计算机可读存储介质在审

专利信息
申请号: 202111000192.2 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN113852803A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 彭旭;韩欣欣 申请(专利权)人: 歌尔光学科技有限公司
主分类号: H04N17/00 分类号: H04N17/00;G06T7/00;G06T7/62
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 张志江
地址: 261031 山东省潍坊市高新区清池街*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 测试 方法 系统 计算机 可读 存储 介质
【说明书】:

发明公开一种鬼像测试方法、鬼像测试系统和计算机可读存储介质,鬼像测试方法包括步骤:光源向待测光学系统发出检测光线;采样相机于待测光学系统的像面采样,以获取检测图像,光功率计于待测光学系统的像面检测,以获取主光线的光功率及杂光的光功率;以及处理器获取鬼像弥散比和杂光能量比。其中,检测光线经待测光学系统传播后,能于待测光学系统的像面形成检测图像,检测图像包括主像以及鬼像,主光线和杂光分别于待测光学系统的像面形成主像和鬼像,鬼像弥散比为鬼像与主像的面积之比,杂光能量比为杂光与主光线的光功率之比。本发明技术方案旨在多维度且量化评估鬼像对于光学系统的成像质量的影响程度,以确保光学系统的成像效果。

技术领域

本发明涉及光学系统领域,特别涉及一种鬼像测试方法、鬼像测试系统和计算机可读存储介质。

背景技术

在光学系统的成像过程中,除了主要光线在主像面成像,偶尔会伴随着非正常传输光线在主像面附近汇聚,并形成鬼像。形成鬼像的光线属于杂光,但也是成像光线。然而,目前常见的杂光评价指标都是针对非成像杂光评价所定义的参量,并不适用于评价成像类型的鬼像杂光,因而无法评估鬼像对于光学系统的成像质量的影响程度。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种鬼像测试方法,旨在多维度且量化评估鬼像对于光学系统的成像质量的影响程度,以确保光学系统的成像效果。

为实现上述目的,本发明提出的鬼像测试方法,包括步骤:

光源向待测光学系统发出检测光线;其中,所述检测光线经所述待测光学系统传播后,能于所述待测光学系统的像面形成检测图像;

采样相机于所述待测光学系统的像面采样,以获取所述检测图像,光功率计于所述待测光学系统的像面检测,以获取主光线的光功率及杂光的光功率;以及

处理器获取鬼像弥散比和杂光能量比;其中,所述检测图像包括主像以及鬼像,所述主光线于所述待测光学系统的像面形成所述主像,所述杂光于所述待测光学系统的像面形成所述鬼像,所述鬼像弥散比为所述鬼像与所述主像的面积之比,所述杂光能量比为所述杂光与所述主光线的光功率之比。

可选地,所述处理器获取所述出射图像及形成于所述出射图像上的鬼像、所述第一光线功率及所述第二光线功率,并获取鬼像弥散比和杂光能量比的步骤之后还包括步骤:

当所述鬼像弥散比大于第一阈值且所述杂光能量比小于第二阈值时,处理器判定所述待测光学系统的鬼像满足要求。

可选地,所述处理器获取鬼像弥散比的步骤具体为:

处理器获取所述检测图像;

处理器获取所述鬼像的面积及所述主像的面积,并获取所述鬼像弥散比;

处理器计算所述鬼像的面积与所述主像的面积的比值,以获取所述鬼像弥散比;

可选地,所述处理器获取所述鬼像的面积的步骤具体为:

处理器将所述鬼像拟合为椭圆;

处理器以椭圆面积公式计算所述鬼像的面积。

可选地,所述光功率计包括第一探头和第二探头,所述第一探头设于所述主像所在的区域,所述第二探头设于所述鬼像所在的区域,所述主像所在的区域和所述鬼像所在的区域具有重合区域,所述第一探头和所述第二探头中的至少一者不位于所述重合区域;

所述处理器获取杂光能量比的步骤具体为:

处理器获取所述第一探头检测的第一光功率及所述第二探头检测的第二光功率;

处理器获取主光线的光功率及杂光的光功率,并计算所述杂光能量比。

可选地,所述处理器获取所述第一探头检测的第一光功率及所述第二探头检测的第二光功率的步骤之前还包括步骤:

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