[发明专利]一种材料表面粗糙度的确定方法及系统在审
申请号: | 202110987038.2 | 申请日: | 2021-08-26 |
公开(公告)号: | CN113701680A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 马玉田;刘俊标;韩立 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | G01B15/08 | 分类号: | G01B15/08 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 董领逊 |
地址: | 100190 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 材料 表面 粗糙 确定 方法 系统 | ||
1.一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,包括:
获取材料集合;所述材料集合包括已知表面粗糙度的材料;
利用扫描电子显微镜对所述材料集合中的材料进行扫描,确定二次电子像集合;
对所述二次电子像集合进行灰度处理,得到灰度图像集合;
根据灰度图像集合每一灰度图像对应的灰度值与对应的表面粗糙度确定灰度值与表面粗糙度的对应关系曲线;
获取待确定的材料;
利用扫描电子显微镜对待确定的材料进行扫描,确定二次电子像;并对二次电子像进行灰度处理;
根据灰度处理后的二次电子像的灰度值以及灰度值与表面粗糙度的对应关系曲线确定待确定的材料的表面粗糙度。
2.根据权利要求1所述的一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,所述利用扫描电子显微镜对所述材料集合中的材料进行扫描,确定二次电子像集合,具体包括:
对所述扫描电子显微镜进行设置;设置后的扫描电子显微镜采用的加速电压为15-20kV,束流为5-10nA;
利用设置后的扫描电子显微镜发出的电子束垂直材料集合中的材料的表面进行照射和扫描,确定二次电子像集合。
3.根据权利要求1所述的一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,所述利用设置后的扫描电子显微镜发出的电子束垂直材料集合中的材料的表面进行照射和扫描,确定二次电子像集合,具体包括:
将材料集合中的材料放置在设置后的扫描电子显微镜内,并当真空抽至10-2Pa时,发出垂直材料集合中的材料的表面的电子束进行照射和扫描,确定二次电子像集合。
4.根据权利要求1所述的一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,所述材料为钨片。
5.根据权利要求4所述的一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,所述获取待确定的材料,具体包括:
获取设定形状的钨块;
采用聚焦离子束在所述钨块的表面制备纳米条纹,形成钨片。
6.根据权利要求5所述的一种材料表面粗糙度的确定方法,其特征在于,所述钨片的纳米条纹的宽度的为0.5μm-1μm;
纳米条纹的长度为3μm-5μm;
纳米条纹的深度为1nm-1μm。
7.一种材料表面粗糙度的确定系统,其特征在于,包括:
材料集合获取模块,用于获取材料集合;所述材料集合包括已知表面粗糙度的材料;
二次电子像集合确定模块,用于利用扫描电子显微镜对所述材料集合中的材料进行扫描,确定二次电子像集合;
灰度图像集合确定模块,用于对所述二次电子像集合进行灰度处理,得到灰度图像集合;
对应关系曲线确定模块,用于根据灰度图像集合每一灰度图像对应的灰度值与对应的表面粗糙度确定灰度值与表面粗糙度的对应关系曲线;
待确定的材料获取模块,用于获取待确定的材料;
待确定的材料处理模块,用于利用扫描电子显微镜对待确定的材料进行扫描,确定二次电子像;并对二次电子像进行灰度处理;
表面粗糙度确定模块,用于根据灰度处理后的二次电子像的灰度值以及灰度值与表面粗糙度的对应关系曲线确定待确定的材料的表面粗糙度。
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