[发明专利]一种光学薄膜及其成型方法

说明书

本发明适用于膜技术领域，提供了一种光学薄膜，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝，本发明还公开了所述光学薄膜的成型方法，设有防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，通过加入二氧化硅和氧化铝，材料层表面应力变小不易收缩，上层材料的附着力更高，成膜后表面羟基更多，接着力更好，通过对防反射第一膜层进行预加热，能够将湿涂涂料中的小分子受热膨胀后挤出，这样表面层都是附着在高分子树脂上，进一步提高了防反射第二膜层与防反射第一膜层的接着力。

技术领域

本发明属于膜技术领域，尤其涉及一种光学薄膜及其成型方法。

背景技术

光学薄膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。现代光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器，光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。

现有光学薄膜的膜层之间接着力较低，从而降低了光学薄膜的力学性能。

发明内容

本发明提供一种光学薄膜及其成型方法，旨在解决现有湿涂工艺与磁控溅射工艺各自存在的问题。

本发明是这样实现的，一种光学薄膜，包括依次设置的防反射第一膜层、防反射第二膜层和防指纹层，所述防反射第一膜层包括依次设置的基材和多层高分子材料层，防反射第二膜层设于高分子材料层表面，防指纹层设于防反射第二膜层表面，构成高分子材料层的高分子材料中含有二氧化硅和氧化铝。

优选地，所述基材的材质为pet、pc、pmma、tac、pen、cpi中的一种或多种。

优选地，相邻的两层高分子材料层中的一层为高折射率，另一层为低折射率，所述防反射第二膜层为低折射率。

优选地，所述防反射第二膜层的材料包括氧化硅、氟化镁、氧化铝、氟化铈、氟化镧、氟化钡、氟化铝、冰晶石、锥冰晶石、二氧化铝、碳化硅、氧化铌、氮化硅和氧化钛中的一种或多种。

优选地，所述基材表面设有硬化膜层。

一种光学薄膜成型方法，用于制作上述的光学薄膜，步骤如下：

1)通过湿法滚涂工艺在基材一侧表面层叠加工多层高分子材料层，加工完一层高分子材料层，干燥后再加工另一层高分子材料层，最后一层高分子材料层干燥后获得防反射第一膜层；

2)将获得的防反射第一膜层进行预加热，再加工防反射第二膜层；

3)在防反射第二膜层表面加工防指纹层。

优选地，步骤2)中，所述预加热温度为40-150℃。

优选地，步骤2)中，所述预加热时间为10s-60min。

优选地，步骤2)中，所述防反射第二膜层的加工工艺为湿法滚涂工艺或磁控溅射工艺。

优选地，步骤3)中，所述防指纹层采用卷对卷真空蒸镀方式加工。

与现有技术相比，本申请实施例主要有以下有益效果：

1、通过加入二氧化硅和氧化铝，一方面材料层表面应力变小不易收缩，上层材料的附着力更高，另一方面，成膜后表面羟基更多，接着力更好，提升防反射第二膜层与防反射第一膜层的接着力，提升密着性；

2、通过对防反射第一膜层进行预加热，能够将湿涂涂料中的小分子受热膨胀后挤出，这样表面层都是附着在高分子树脂上，而不是附着在小分子的惰性气体上，然后进入镀膜机中，这样进一步提高了防反射第二膜层与防反射第一膜层的接着力。