[发明专利]一种端面泵浦激光多级再生放大系统在审

专利信息
申请号: 202110970047.0 申请日: 2021-08-23
公开(公告)号: CN113783094A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 马英俊;李悦萌 申请(专利权)人: 安徽光智科技有限公司
主分类号: H01S3/094 分类号: H01S3/094;H01S3/06;H01S3/10
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 李琼芳;肖小龙
地址: 239064 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 端面 激光 多级 再生 放大 系统
【权利要求书】:

1.一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,包括单块激光晶体,激光晶体端面具有一个信号光输入窗口、多个泵浦光输入窗口和一个激光输出窗口,信号光从信号光输入窗口进入所述单块激光晶体,在所述单块激光晶体内被多次反射,经所述激光输出窗口透射出所述单块激光晶体,泵浦光从所述多个泵浦光输入窗口进入所述单块激光晶体,对信号光进行放大。

2.根据权利要求1所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,所述信号光输入窗口和所述激光输出窗口设置有激光增透膜;所述多个泵浦光输入窗口设置有激光高反膜和泵浦光增透膜。

3.根据权利要求2所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,在激光晶体上镀膜:在激光晶体上对应所述信号光输入窗口、激光输出窗口的区域镀有激光增透膜,在激光晶体上对应多个泵浦光输入窗口的区域镀激光高反膜、泵浦光增透膜。

4.根据权利要求2所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,所述激光晶体在所述信号光输入窗口、激光输出窗口以及多个泵浦光输入窗口分别设置光学基片,在所述信号光输入窗口、激光输出窗口的光学基片镀激光增透膜,所述多个泵浦光输入窗口的光学基片的靠近和远离激光晶体的两面均镀有泵浦光增透膜,所述多个泵浦光输入窗口的光学基片靠近所述激光晶体的一面镀有激光高反膜。

5.根据权利要求2-4任一项所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,镀于所述激光晶体或光学基片上的所述激光高反膜,可对特定角度入射的激光实现高反。

6.根据权利要求1所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,所述信号光由所述信号光输入窗口进入激光晶体,在激光晶体内经过多次反射,且所经光路与泵浦光光路同轴。

7.根据权利要求1或6所述的一种端面泵浦激光多级再生放大系统,其特征在于,所述泵浦光经过所述泵浦光输入窗口进入激光晶体后,与激光晶体内经过的所述信号光同轴。

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