[发明专利]涡旋光源模组制备系统及方法

权利要求书

1.一种涡旋光源模组制备系统，其特征在于，包括：

涡旋波片制备设备，用于制备涡旋波片阵列；

1/4波片制备设备，用于制备尺寸与所述涡旋波片阵列的尺寸一致的1/4波片；

丝网印刷设备，用于在所述涡旋波片上印刷切割线，并在每个切割单元中印刷一标志点；

切割设备，用于将所述涡旋波片阵列与所述1/4波片进行层叠对位后沿所述切割线进行切割；

封装设备，用于根据所述标志点区分切割后的涡旋波片阵列单元与1/4波片单元，将切割后的涡旋波片单元与1/4波片单元装入所获取的壳体中；所述壳体设有部署激光二极管、涡旋波片单元和1/4波片单元的中空通道，还设有用于对所述激光二极管所产生的线性偏振光的偏振方向与所述1/4波片单元的快轴方向成45度角的限位装置；然后将所述激光二极管固定在所述壳体中，以形成所述1/4波片单元处于所述激光二极管与涡旋波片单元之间的光路。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述封装设备还用于将所述激光二极管沿所述光路的相反方向延伸出所述壳体外的管脚插接至电路板中。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述激光二极管的管脚底座上设有凹槽，所述壳体的中空通道上设有与所述凹糟相对位的凸起，所述凸起用于对所述激光二极管所产生的线性偏振光的偏振方向与所述1/4波片单元的快轴方向成45度角的限位。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述中空通道内设有用于将所述涡旋波片单元和1/4波片单元以点胶固定于所述壳体上的一类胶渗入通道，所述一类胶渗入通道由所述壳体对位所述激光二极管的管脚底座方向延伸至所述涡旋波片单元与所述1/4波片单元之间间隙部分，所述中空通道内还设有用于二类胶渗入通道，所述二类胶渗入通道的长度小于所述一类胶渗入通道的长度；所述封装设备还用于通过所述一类胶渗入通道将所述涡旋波片单元和1/4波片单元以点胶进行固定；之后，通过所述二类胶渗入通道将所述激光二极管固定在所述壳体中。

5.根据权利要求1至4任一所述的系统，其特征在于，所述涡旋波片制备设备与所述丝网印刷设备之间连接有传送带，所述切割设备与所述丝网印刷设备、所述1/4波片制备设备及所述封装设备之间连接有传送带。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述激光二极管的管脚底座截面除所述凹槽外的外部轮廓线呈弧形。

7.一种涡旋光源模组制备方法，应用于如权利要求1至6任一所述的系统中，其特征在于，包括：

分别制备涡旋波片阵列和1/4波片；

对涡旋波片阵列进行丝网印刷处理，以在所述涡旋波片上印刷切割线，并在每个切割单元中印刷一标志点；

将所述涡旋波片阵列与所述1/4波片进行层叠对位后沿所述切割线进行切割；

根据所述标志点区分切割后的涡旋波片阵列与1/4波片单元，将切割后的涡旋波片单元与1/4波片单元装入壳体中；所述壳体设有部署激光二极管、涡旋波片单元和1/4波片单元的中空通道，还设有用于对所述激光二极管所产生的线性偏振光的偏振方向与所述1/4波片单元的快轴方向成45度角的限位装置；然后将所述激光二极管固定在所述壳体中，以形成所述1/4波片单元处于所述激光二极管与涡旋波片单元之间的光路。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述中空通道内设有用于将所述涡旋波片单元和1/4波片单元以点胶固定于所述壳体上的一类胶渗入通道，所述一类胶渗入通道由所述壳体对位所述激光二极管的管脚底座方向延伸至所述涡旋波片单元与所述1/4波片单元之间间隙部分，所述中空通道内还设有用于二类胶渗入通道，所述二类胶渗入通道的长度小于所述一类胶渗入通道的长度；

在封装过程中，先通过所述一类胶渗入通道将所述涡旋波片单元和1/4波片单元以点胶进行固定；之后，再通过所述二类胶渗入通道将所述激光二极管固定在所述壳体中。