[发明专利]一种氧化锆陶瓷种植体材料的表面涂层方法及其应用

权利要求书

1.一种氧化锆陶瓷种植体材料，其特征在于，包括：基底以及其表面覆盖的金属氧化钛薄膜；

所述基底为氧化锆陶瓷种植体；

所述金属氧化钛薄膜具有锐钛矿晶型结构；所述金属氧化钛薄膜利用原子层沉积技术在氧化锆陶瓷基底表面形成金属氧化物薄膜；步骤如下：

（1）将前驱体A四二甲氨基钛引入反应腔，与氧化锆陶瓷基底上的反应位点进行第一次表面反应；

其操作条件为：反应腔内反应温度100~300℃；

（2）用惰性气体吹扫，去除反应腔内未反应的前驱体A和挥发性副产物二甲胺；

（3）将前驱体B水引入反应腔，与步骤（1）表面反应后的位点进行第二次表面反应，此时该表面转换回具有相同反应位点的起始表面；

其操作条件为：反应腔内反应温度100~300℃；

（4）再次用惰性气体吹扫，即完成一个循环过程，沉积一次氧化钛薄膜；

（5）重复上述步骤（1）-（4），直到氧化钛薄膜的厚度达到目标厚度；总厚度不超过100nm；所述氧化钛薄膜为无定型非晶结构；

（6）对步骤（5）得到的种植体材料进行加热回火处理，获得具有锐钛矿晶型结构的氧化钛薄膜；

所述加热回火处理的条件为：温度300-600℃，时间为5-60min。

2.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷种植体材料，其特征在于，所述氧化钛薄膜的厚度为10nm-70nm。