[发明专利]一种电解用全氟离子交换膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110947843.2 申请日: 2021-08-18
公开(公告)号: CN113751083A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 梁国富 申请(专利权)人: 梁国富
主分类号: B01J47/12 分类号: B01J47/12;C25B13/08;C25C7/04
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 叶灿才
地址: 235000 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电解 用全氟 离子交换 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种电解用全氟离子交换膜的制备方法,包括主体,所述主体的顶部中间位置设置有制备装置,所述制备装置的右侧外壁连通有进料斗,所述制备装置的顶部中间位置固定连接有驱动箱,所述制备装置的正面顶部右侧固定连接有控制面板,所述制备装置的正面顶部右侧设置有连通管道,本发明涉及离子交换膜技术领域。该电解用全氟离子交换膜的制备方法,有效的提高了装置传递的密封性,定位导向件与升降体的紧密贴合,使得辅助机构能够对其进行固定,从而增大了装置内部成型空间的控制,有效的保证了装置产出交换膜厚度的均匀性,便于内部进行间歇式的运动,防止生产机构工作时因大的杂质造成内部卡死的情况,有利于延长装置的使用寿命。

技术领域

本发明涉及离子交换膜技术领域,具体为一种电解用全氟离子交换膜的制备方法。

背景技术

含氟离子交换膜的耐热性、耐化学药品性等优异,电解(Electrolysis)是将电流通过电解质溶液或熔融态电解质(又称电解液),在阴极板和阳极板上引起氧化还原反应的过程,电化学电池在外加直流电压时可发生电解过程,但是在生产后容易粘附杂质,且产出的交换膜容易出现偏移或厚度不均匀,降低了装置的生产质量,内部大的杂质容易导致装置的损坏,降低了装置的使用寿命。

综上所述,在生产后容易粘附杂质,且产出的交换膜容易出现偏移或厚度不均匀,降低了装置的生产质量,内部大的杂质容易导致装置的损坏,降低了装置的使用寿命。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本发明提供了一种电解用全氟离子交换膜的制备方法,解决了在生产后容易粘附杂质,且产出的交换膜容易出现偏移或厚度不均匀,降低了装置的生产质量,内部大的杂质容易导致装置的损坏,降低了装置的使用寿命的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种电解用全氟离子交换膜的制备方法,包括主体,所述主体的顶部中间位置设置有制备装置,所述制备装置的右侧外壁连通有进料斗,所述制备装置的顶部中间位置固定连接有驱动箱,所述制备装置的正面顶部右侧固定连接有控制面板,所述制备装置的正面顶部右侧设置有连通管道。

优选的,所述制备装置包括制备箱,所述制备箱的内腔底部中间位置设置有定位导向件,所述制备箱的内腔底部位于定位导向件的两侧固定连接有辅助机构,所述辅助机构靠近定位导向件的一侧顶部固定连接有升降体,所述升降体的内腔顶部中间位置设置有生产机构,通过定位导向件与升降体的紧密贴合,使得辅助机构能够对其进行固定,便于内部进行间歇式的运动,防止生产机构工作时因大的杂质造成内部卡死的情况。

优选的,所述辅助机构包括连接块,所述连接块的顶部中间位置设置有紧固柱,所述紧固柱的内腔底部中间位置设置有中固支架,所述紧固柱的顶部固定连接有密封柱,所述密封柱的底部位于紧固柱的两侧固定连接有辅助撑板,通过辅助撑板具有很好的坚韧性能够对装置固定时不易直接接触到紧固柱,进而减轻了装置长期工作时的磨损,紧固柱与连接块的配合,便于保持内部充足的活动空间。

优选的,所述生产机构包括清洁箱,所述清洁箱的两侧内壁中部固定连接有筛选架,所述清洁箱的顶部中间位置设置有安装件,所述安装件的底部贯穿清洁箱且延伸至清洁箱的内部,所述清洁箱的两侧外壁底部固定连接有稳固座,所述稳固座的顶部固定连接有联通机构,通过筛选架刮除的杂质在工作完成后,安装件会进行下降与筛选架进行碰撞,使得杂质掉落,从而保证了内部的洁净,有效的减轻交换膜移动过程中的摩擦力。

优选的,所述联通机构包括分流箱,所述分流箱的两侧内壁中部设置有分流体,所述分流箱的内腔底部固定连接有阻隔板,所述阻隔板的顶部位于分流体的两侧固定连接有支撑杆,所述支撑杆靠近分流体的一侧顶部固定连接有弧形侧板,通过支撑杆与弧形侧板的紧密连接,使得杂质内部分流体的紧固范围便于进行微量的调节,有利于对内部进行多角度的支撑,进而保证了内部的稳定。

优选的,所述分流体靠近分流箱的位置开设有导流孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于梁国富,未经梁国富许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110947843.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top