[发明专利]一种显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202110930074.5 申请日: 2021-08-13
公开(公告)号: CN113644222A 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 葛树成 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京允天律师事务所 11697 代理人: 张俊杰
地址: 430040 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

阵列基板;

发光单元层,位于所述阵列基板上,包括像素定义层和多个发光单元,所述像素定义层设置多个像素开口,所述发光单元位于所述像素开口内;

滤光层,位于所述发光单元层远离所述阵列基板的一侧,包括黑矩阵和多个色阻,所述黑矩阵设置多个第一开口,所述色阻位于所述第一开口内,所述多个色阻包括颜色不同的第一色阻和第二色阻,所述第一色阻的厚度大于所述第二色阻的厚度;

低折射层,位于所述滤光层的远离所述阵列基板的一侧,设置多个第二开口,所述低折射层与所述色阻接触,在第一方向上,所述低折射层包括与所述第一色阻交叠的第一部分和与所述第二色阻交叠的第二部分,所述第一部分的临近所述第一色阻的底角为第一角度,所述第二部分的临近所述第二色阻的底角为第二角度,所述第一角度与所述第二角度不同;

其中,在所述第一方向上,所述像素开口、所述第一开口与所述第二开口三者交叠;

所述第一方向为垂直于所述阵列基板的方向。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:

高折射层,位于所述低折射层的远离所述阵列基板的一侧,覆盖所述低折射层,且与所述低折射层接触;

所述高折射层的折射率大于所述低折射层的折射率。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,

所述第一角度和所述第二角度满足:

所述第一角度大于所述第二角度,且所述第一角度小于或者等于界限角度;或者,

所述第一角度小于所述第二角度,且所述第一角度大于或者等于所述界限角度。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述低折射层临近所述色阻的底角为所述界限角度时,所述显示面板在色阻处提升的发光效率为最大值。

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,

所述界限角度为55度。

7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述第一色阻为红光色阻,所述第二色阻为蓝光色阻和绿光色阻中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述显示面板包括显示区,所述显示区包括第一区域和第二区域;

所述显示面板还包括薄膜封装层,所述薄膜封装层位于所述发光单元层和所述滤光层之间;

所述薄膜封装层在所述第一区域的厚度大于所述薄膜封装层在所述第二区域的厚度;

位于所述第一区域的至少一个所述第一色阻的厚度小于位于所述第二区域的至少一个所述第一色阻的厚度;

位于所述第一区域的至少一个所述第二色阻的厚度小于位于所述第二区域的至少一个所述第二色阻的厚度。

9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,

在所述第一区域,所述第一角度和所述第二角度满足:

所述第一角度大于所述第二角度,且所述第一角度小于或者等于界限角度;或者,

所述第一角度小于所述第二角度,且所述第一角度大于或者等于所述界限角度;

且,在所述第二区域,所述第一角度和所述第二角度满足:

所述第一角度大于所述第二角度,且所述第一角度小于或者等于界限角度;或者,

所述第一角度小于所述第二角度,且所述第一角度大于或者等于所述界限角度;

且,在所述第一区域,所述第一角度与所述界限角度之间的差值的绝对值为第一差值,在所述第二区域,所述第一角度与所述界限角度之间的差值的绝对值为第二差值,所述第一差值大于所述第二差值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司,未经武汉天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110930074.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top