[发明专利]一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法在审
申请号: | 202110919924.1 | 申请日: | 2021-08-11 |
公开(公告)号: | CN113844069A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 杨伟;范文春;周钰明 | 申请(专利权)人: | 东南大学;升辉新材料股份有限公司 |
主分类号: | B29D7/01 | 分类号: | B29D7/01;B32B27/32;B32B7/12;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/30;B32B33/00;B29K23/00 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
地址: | 210018 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可回收 阻隔 强度 复合 制备 方法 | ||
1.一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述可回收高阻隔高强度复合膜包括高强度支撑层、高阻隔层和胶粘剂层,其制备方法为:
S1、将聚乙烯树脂经挤出机加热至190-220℃熔融从模头挤出,然后冷却定型,制得聚乙烯膜层;
S2、将步骤S1中所述的聚乙烯膜层经电子辐照进行交联,得到高强度支撑层;
S3、共挤出制备EOE薄膜并进行在线或离线纵向拉伸,得到高阻隔层;
S4、使用胶粘剂层将所述高强度支撑层和所述高阻隔层进行粘结复合;
S5、将步骤S4中复合后的薄膜置于45-55℃熟化室熟化40-55小时,制得可回收高阻隔高强度复合膜。
2.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述聚乙烯膜层厚度为50-120μm。
3.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述聚乙烯膜层的层数为一层以上。
4.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述聚乙烯树脂为低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、或茂金属聚乙烯中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中,电子辐照的剂量范围为70-200KGy。
6.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述EOE薄膜由7-13层结构组成,其中EVOH质量含量≤8-10%。
7.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,纵向拉伸的处理参数为:预热温度130-150℃,拉伸温度150-160℃,拉伸倍率4-6倍。
8.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述高阻隔层厚度为25-50um。
9.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中,所述胶粘剂层为无溶剂聚氨酯胶黏剂层。
10.根据权利要求1所述的一种可回收高阻隔高强度复合膜的制备方法,其特征在于,所述胶粘剂层厚度为0.001-0.01mm。
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