[发明专利]一种获得超高对比度激光的打靶装置和方法在审
| 申请号： | 202110898717.2 | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN115707166A | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 陈式有;高营;马文君;颜学庆 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | H05H3/02 | 分类号： | H05H3/02 |
| 代理公司： | 北京康思博达知识产权代理事务所(普通合伙) 11426 | 代理人： | 范国锋;刘冬梅 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 获得 超高 对比度 激光 打靶 装置 方法 | ||
1.一种获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
包括第一等离子体镜(1)、第二等离子体镜(2)和靶(3)。
2.根据权利要求1所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
第一等离子体镜(1)将激光光束反射至第二等离子体镜(2)，第二等离子体镜(2)将激光光束反射至靶(3)。
3.根据权利要求1所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
照射第一等离子体镜1的激光光束为TW级别以上功率的激光，优选为PW级别功率的激光，更优选地，所述激光光束通过离轴抛物面镜聚焦得到。
4.根据权利要求1～3之一所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
第一等离子体镜(1)的镜面与激光光路中线呈45°夹角。
5.根据权利要求1～3之一所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
第一等离子体镜(1)反射的激光竖直向上或竖直向下。
6.根据权利要求1～3之一所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
照射第一等离子体镜(1)的激光光束的光路中线水平设置，第二等离子体镜(2)将第一等离子体镜(1)反射的激光再次反射到水平面上。
7.根据权利要求1～3之一所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
所述第一等离子体镜(1)固定在第一支架(4)上，所述第二等离子体镜(2)固定在第二支架(5)上，使得第一等离子体镜(1)和第二等离子体镜(2)的离焦位置合适，所述离焦位置合适是指激光能够在脉冲峰值前3ps内触发等离子体镜。
8.根据权利要求1～3之一所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
该装置还具有靶座(31)和镜靶支座(6)，所述靶(3)固定在靶座(31)上，所述靶座(31)固定在镜靶支座(6)上，
所述第一支架(4)、第二支架(5)与镜靶支座(6)固定连接。
9.根据权利要求8所述的获得超高对比度激光的打靶装置，其特征在于，
该装置还包括位移台(7)，所述位移台为能够移动和/或旋转的平台，
所述第一支架(4)、第二支架(5)和/或镜靶支座(6)置于位移台(7)上，随位移台(7)移动或旋转。
10.一种获得超高对比度激光的打靶方法，其特征在于，
激光通过至少两个等离子体镜反射聚焦后打靶。
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