[发明专利]提高波长选择开关端口隔离度的调制方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110889649.3 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN113608369A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 陆建钢;潘亦晨;罗宇翔 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王爱涛
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 提高 波长 选择 开关 端口 隔离 调制 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种提高波长选择开关端口隔离度的调制方法,其特征在于,所述调制方法包括:

确定空间光调制器调制形成的等效光栅对各个端口的标准相位调制深度;

根据所述标准相位调制深度,确定以每一所述端口作为目标端口时的相位调制深度测试范围;

对于每一所述端口,以所述端口作为目标端口,将所述等效光栅对所述目标端口的相位调制深度调整至所述测试范围内,计算所述测试范围内各相位调制深度对应的极小隔离度,并选取所述极小隔离度的最大值所对应的相位调制深度作为所述等效光栅对所述目标端口的目标相位调制深度;

按照每一所述端口对应的目标相位调制深度,控制所述空间光调制器进行相位调制。

2.根据权利要求1所述的调制方法,其特征在于,所述将所述等效光栅对所述目标端口的相位调制深度调整至所述测试范围内具体包括:

建立所述等效光栅的仿真模型;

根据所述仿真模型的模型参数与相位调制深度的对应关系,通过改变所述模型参数将所述等效光栅对所述目标端口的相位调制深度调整至所述测试范围内。

3.根据权利要求2所述的调制方法,其特征在于,当所述等效光栅为闪耀光栅时,所述建立所述等效光栅的仿真模型为利用virtual lab fusion的光栅工具箱建立所述闪耀光栅的仿真模型,具体包括:

设置光栅堆栈,在所述光栅堆栈上添加平面界面和三角界面、选择材料和设置光栅周期,得到所述闪耀光栅的仿真模型;所述三角界面的高度可调;所述光栅周期根据所述目标端口的工作波长所确定。

4.根据权利要求3所述的调制方法,其特征在于,当所述仿真模型的模型参数为所述三角界面的高度时,所述仿真模型的模型参数与相位调制深度的对应关系具体包括:

其中,为相位调制深度;h为所述三角界面的高度;n为建立仿真模型时所选材料的折射率;λ为所述目标端口的工作波长。

5.根据权利要求1所述的调制方法,其特征在于,所述计算所述测试范围内各相位调制深度对应的极小隔离度具体包括:

对于所述测试范围内的每一相位调制深度,获取将所述等效光栅对所述目标端口的相位调制深度调整至所述相位调制深度时,所得到的进入各个端口的光强;

根据所述进入各个端口的光强,计算所述相位调制深度对应的极小隔离度。

6.根据权利要求5所述的调制方法,其特征在于,所述根据所述进入各个端口的光强,计算所述相位调制深度对应的极小隔离度具体包括:

根据所述进入各个端口的光强,获取进入所述目标端口的光强以及进入除所述目标端口外的其他端口的光强最大值,根据进入所述目标端口的光强以及所述光强最大值计算所述相位调制深度对应的极小隔离度。

7.根据权利要求2所述的调制方法,其特征在于,所述计算所述测试范围内各相位调制深度对应的极小隔离度具体包括:

对于所述测试范围内的每一相位调制深度,通过改变所述模型参数将所述等效光栅对所述目标端口的相位调制深度调整至所述相位调制深度后,对所述仿真模型进行级次分析,获取各个端口对应衍射级次的衍射效率;

根据所述各个端口对应衍射级次的衍射效率,计算所述相位调制深度对应的极小隔离度。

8.根据权利要求7所述的调制方法,其特征在于,所述根据所述各个端口对应衍射级次的衍射效率,计算所述相位调制深度对应的极小隔离度具体包括:

根据所述各个端口对应衍射级次的衍射效率,获取所述目标端口对应衍射级次的衍射效率以及除所述目标端口外的其他端口对应衍射级次的衍射效率的最大值,根据所述目标端口对应衍射级次的衍射效率以及所述最大值计算所述相位调制深度对应的极小隔离度。

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