[发明专利]岩溶发育区复杂地质模型的创建方法在审

专利信息
申请号: 202110885920.6 申请日: 2021-08-03
公开(公告)号: CN113658335A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 林细桃;李秀峰;莫凡;钟真盛;梁换;郑嘉伟 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05;G06F30/10
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 宋小光
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 岩溶 发育 复杂 地质模型 创建 方法
【说明书】:

发明涉及一种岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,包括如下步骤:对岩溶发育区进行地质勘探以得到地质勘探数据;利用所得到的地质勘探数据绘制地质横断面图和地质纵断面图;对所绘制的地质横断面图和地质纵断面图进行修正;将修正的地质横断面图和地质纵断面图导入Revit平台,利用Revit平台生成三维地质模型。本发明提高了三维地质模型的精确度,使其能够准确的反映岩溶发育区的复杂地质情况,为工程设计及施工提供数据依据及技术支持。

技术领域

本发明涉及地质建模技术领域,特指一种岩溶发育区复杂地质模型的创建方法。

背景技术

传统地质表达方式主要以二维数据和图表为主,数据烦冗、晦涩难懂。为实现三维地质空间信息的管理、集成、地质解译和三维地质可视化分析和预测,近年来三维地质建模技术逐渐兴起并得到发展,主流有钻孔数据生成实体三维模型的算法,通过钻孔勘探得到地层数据,并将地层数据导入到软件中进而生成了三维模型。现有的施工规范对钻孔的布设间距要求在20m至50m之间,由于生成的三维模型中缺失了钻孔之间的地层数据,使得生成的三维模型无法准确的表达复杂地质情况下的岩溶地质,其精度通常难以达到50%。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,解决现有的三维模型生成方法中存在精度低、无法准确表达复杂地质情况下的岩溶地质的问题。

实现上述目的的技术方案是:

本发明提供了一种岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,包括如下步骤:

对岩溶发育区进行地质勘探以得到地质勘探数据;

利用所得到的地质勘探数据绘制地质横断面图和地质纵断面图;

对所绘制的地质横断面图和地质纵断面图进行修正;以及

将修正的地质横断面图和地质纵断面图导入Revit平台,利用Revit平台生成三维地质模型。

本发明的地质模型创建方法采用绘制地质横断面图和地质纵断面图的方式来建立三维地质模型,在绘制地质横断面图和地质纵断面图时,能够对地质横断面图和地质纵断面图进行修正,以提高地质横断面图和地质纵断面图的精度,进而再根据高精度的地质横断面图和地质纵断面图来生成三维地质模型,提高了三维地质模型的精确度,使其能够准确的反映岩溶发育区的复杂地质情况,为工程设计及施工提供数据依据及技术支持。

本发明岩溶发育区复杂地质模型的创建方法的进一步改进在于,对岩溶发育区进行地质勘探的步骤包括:

于岩溶发育区布设勘探点;

于所述勘探点处进行钻孔勘探以得到钻孔勘探数据。

本发明岩溶发育区复杂地质模型的创建方法的进一步改进在于,还包括:

利用物探方式对岩溶发育区进行勘探以得到物探勘探数据。

本发明岩溶发育区复杂地质模型的创建方法的进一步改进在于,修正地质横断面图和地质纵断面图时,利用所述物探勘探数据对所述地质横断面图和所述地质纵断面图进行修正。

本发明岩溶发育区复杂地质模型的创建方法的进一步改进在于,对岩溶发育区进行地质勘探以得到地质勘探数据的步骤包括:

利用钻孔勘探的方式对岩溶发育区进行勘探以得到钻孔勘探数据;

利用多种物探方式对岩溶发育区进行勘探以得到多种物探勘探数据;

从多种物探勘探数据中选择能够与所述钻孔勘探数据相印证的物探勘探数据,并将选择的物探勘探数据与所述钻孔勘探数据组合形成地质勘探数据。

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