[发明专利]岩溶发育区复杂地质模型的创建方法在审
申请号: | 202110885920.6 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN113658335A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 林细桃;李秀峰;莫凡;钟真盛;梁换;郑嘉伟 | 申请(专利权)人: | 中国建筑第八工程局有限公司 |
主分类号: | G06T17/05 | 分类号: | G06T17/05;G06F30/10 |
代理公司: | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人: | 宋小光 |
地址: | 200122 上海市浦东新区中国*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 岩溶 发育 复杂 地质模型 创建 方法 | ||
1.一种岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,包括如下步骤:
对岩溶发育区进行地质勘探以得到地质勘探数据;
利用所得到的地质勘探数据绘制地质横断面图和地质纵断面图;
对所绘制的地质横断面图和地质纵断面图进行修正;以及
将修正的地质横断面图和地质纵断面图导入Revit平台,利用Revit平台生成三维地质模型。
2.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,对岩溶发育区进行地质勘探的步骤包括:
于岩溶发育区布设勘探点;
于所述勘探点处进行钻孔勘探以得到钻孔勘探数据。
3.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,还包括:
利用物探方式对岩溶发育区进行勘探以得到物探勘探数据。
4.如权利要求3所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,修正地质横断面图和地质纵断面图时,利用所述物探勘探数据对所述地质横断面图和所述地质纵断面图进行修正。
5.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,对岩溶发育区进行地质勘探以得到地质勘探数据的步骤包括:
利用钻孔勘探的方式对岩溶发育区进行勘探以得到钻孔勘探数据;
利用多种物探方式对岩溶发育区进行勘探以得到多种物探勘探数据;
从多种物探勘探数据中选择能够与所述钻孔勘探数据相印证的物探勘探数据,并将选择的物探勘探数据与所述钻孔勘探数据组合形成地质勘探数据。
6.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,对所述地质横断面图和所述地质纵断面图进行修正后,对所述地质横断面图和所述地质纵断面图中的溶洞、裂隙、断层破碎带以及边界线进行细化。
7.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,生成三维地质模型后,对所述三维地质模型中的溶洞进行修正及细化。
8.如权利要求1所述的岩溶发育区复杂地质模型的创建方法,其特征在于,在绘制地质横断面图和地质纵断面图时,利用CAD进行绘制。
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