[发明专利]一种降低太阳能电池串联电阻的方法及电池制备方法有效
申请号: | 202110871823.1 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN113594301B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 赵雷;彭寿;潘锦功;傅干华;蒋猛 | 申请(专利权)人: | 成都中建材光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B23K26/362 |
代理公司: | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人: | 彭小雨;李佳 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 太阳能电池 串联 电阻 方法 电池 制备 | ||
1.一种降低太阳能电池串联电阻的方法,其特征在于:太阳能电池包括依次层叠的导电层、窗口层、吸收层、背接触层、背电极层;使用激光刻蚀P1刻线、P2刻线、P3刻线;并在P1刻线与P3刻线隔断形成的发电区激光打孔形成孔P2.1;
孔P2.1打孔的数量、半径、间距的估算方法以公式A确认,公式A为:
其中R1=ρL/2r1(Thickness1+Thickness2);
R2=ρ(L+2r2n1)/[(2r1+2r2n2)*(Thickness1+Thickness2);
具体的符号示意:R1为P2刻线后的电池板电阻;R2为P2刻线打孔P2.1后的电池板电阻;Pw为电阻降低功率提升与损失面积功率损失差值;k为每欧姆电阻影响的功率;L为电池板的长度;W为电池板的宽度;P为电池板的功率;ρ为背电极材料的电阻率;Thickness1为吸收层的厚度;Thickness2为窗口层的厚度;r1为刻线P2的半径;r2为孔P2.1的半径;n1为沿电池板W方向打孔的数量;n2为沿电池板L方向打孔的数量。
2.根据权利要求1所述的降低太阳能电池串联电阻的方法,其特征在于:所述P2刻线和孔P2.1同时从两侧进行激光刻蚀。
3.一种采用权利要求1所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:包括依次层叠的导电层、窗口层、吸收层、背接触层、背电极层;设置有P1刻线、P2刻线、P3刻线;在P1刻线与P3刻线隔断形成的发电区设置有孔P2.1。
4.根据权利要求3所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:所述P2刻线和孔P2.1同时从两侧用激光刻蚀成型。
5.根据权利要求3所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:P1刻线贯穿导电层、窗口层、吸收层。
6.根据权利要求3所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:P2刻线贯穿窗口层和吸收层。
7.根据权利要求3所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:P3刻线贯穿窗口层、吸收层、背接触层、背电极层。
8.根据权利要求3所述的降低太阳能电池串联电阻的方法制备的太阳能电池,其特征在于:孔P2.1贯穿窗口层和吸收层。
9.根据权利要求3所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
S1制备导电层,厚度为400~500纳米;
S2制备窗口层,厚度为60~120纳米;
S3制备吸收层,厚度为2-5微米;
S4制备P1刻线、P2刻线、孔P2.1;
采用激光进行第一次激光刻蚀(P1)刻蚀P1刻线,P1完成后,填充光刻胶,固化曝光后进行第二次激光刻蚀(P2)刻蚀出P2刻线和孔P2.1;孔P2.1的打孔数量、孔半径、间距参数以公式A计算;
S5制备背接触层,厚度为10~50纳米;
S6制备背电极层,厚度为200~500纳米;
S7制备P3刻线,背电极层制备完成后,进行第三次激光刻蚀(P3),完成第三次激光刻蚀后,得到太阳能电池成品。
10.根据权利要求9所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于:第二次激光刻蚀(P2)时,刻线P2和打孔P2.1同时进行。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的