[发明专利]二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺

权利要求书

1.适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，真空气体经换热器A（1）后，气相进入旋液分离罐（3），分离的气相进入罗茨真空机组（4）；经罗茨真空机组（4）初次压缩后气体再经换热器B（5）、缓冲罐（6）后进入螺杆真空机组（7）进一步压缩，最终气体全部排入气体吸收塔。

2.根据权利要求1所述的适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，真空气体经换热器A（1）后，夹带的液相物料或气体冷凝后形成的物料进入收集罐（2）中；旋液分离罐（3）进一步分离的液相物料也重新返回收集罐（2），换热器B（5）、缓冲罐（6）收集的液体在重力作用下进入积液槽（8）。

3.根据权利要求2所述的适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，真空气体是指二甲基二氯硅烷水解物裂解过程中产生气体，其中，气体温度40-95℃，绝对压力15kpa~6kpa，主要成分包括六甲基环三硅氧烷20%-45%、八甲基环四硅氧烷10%-25%、十甲基环五硅氧烷10~20%、十二甲基环六硅氧烷1~10%，六甲基二硅氧1-10%、水分15-30%。

4.根据权利要求3所述的适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，真空气体走换热器A（1）的管程，换热器A（1）设置有壳程，换热介质走壳程，控制换热介质进口温度为50-80℃，换热介质包括粘度为50-100cp的甲基硅油、二甲基线体硅氧烷、多氯联苯导热油中的一种或多种；

换热器A（1）出口气体温度控制在60℃-80℃，绝对压力控制在3kPa-8kPa。

5.根据权利要求2所述的适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，换热器B（5）出口气体温度控制在70℃~95℃，绝对压力控制在10kPa-18kPa；离开缓冲罐（6）后的气体温度保持在70℃~90℃。

6.根据权利要求2所述的适用于二甲基二氯硅烷水解物裂解的真空工艺，其特征在于，罗茨真空机组（4）及螺杆真空机组（7）均采用变频设计，首先开启螺杆泵，打开对应螺杆泵氮气轴封电磁阀，对螺杆泵进行暖机，泵体温度到55℃时，关闭螺杆泵入口对应吹扫电磁阀，打开罗茨泵，对系统进行抽真空，罗茨真空机组（4）进口绝对压力3kpa~8kpa，螺杆真空机组（7）的变频器进行变频调节，确保罗茨真空机组（4）进口压力处于设定值时，能控制螺杆真空机组（7）出口气体绝对压力在101-112kPa，温度为130-160℃。