[发明专利]一种双层插值方法、装置、计算机设备及存储介质

说明书

本申请实施例属于插值技术领域，涉及一种双层插值方法。本申请还提供一种双层插值装置、计算机设备及存储介质。此外，本申请还涉及区块链技术，用户的消补双层电离室可存储于区块链中。本申请充分利用arcmap双层电离室的分布特点，应用另一层的信息辅助单层插值，并利用梯度信息，克服线性插值等算法在梯度大区域误差大的问题。而且计算相对简便，速度快。

技术领域

本申请涉及插值技术领域，尤其涉及一种双层插值方法、装置、计算机设备及存储介质。

背景技术

射线探测器主要用于收集高能射线的能量，分布和状态等相关信息，是放射测量设备中的重要组成部分。圆柱体矩阵通过分布在圆柱面上的探头获得三维空间射线的信息。然而探头数目相当有限，想获得圆柱面上剂量的分布，需要插值。

申请人发现现有的线性插值方法中，在梯度较大的地方，如射野边界，往往会存在较大的误差。

发明内容

本申请实施例的目的在于提出一种双层插值方法、装置、计算机设备及存储介质，以解决传统的线性插值方法存在的误差较大的问题。

为了解决上述技术问题，本申请实施例提供一种双层插值方法，采用了如下所述的技术方案：

接收携带有原始双层电离室的插值请求；

对所述原始双层电离室的边界进行填补操作，得到填补双层电离室；

在对角方向根据所述填补双层电离室的第一填补电离室对所述填补双层电离室的第二填补电离室进行对角插值操作，得到中间双层电离室；

在横竖方向对所述中间双层电离室进行横竖插值操作，得到结果双层电离室；

对所述结果双层电离室进行消补操作，得到消补双层电离室；

判断所述消补双层电离室是否满足预设的分辨率要求；

若所述消补双层电离室满足所述分辨率要求，则输出所述消补双层电离室；

若所述消补双层电离室不满足所述分辨率要求，则重复执行所述填补操作、所述对角插值操作、所述横竖插值操作以及所述消补操作，直至得到的所述消补双层电离室满足所述分辨率要求时，输出所述消补双层电离室。

为了解决上述技术问题，本申请实施例还提供一种双层插值装置，采用了如下所述的技术方案：

请求接收模块，用于接收携带有原始双层电离室的插值请求；

填补模块，用于对所述原始双层电离室的边界进行填补操作，得到填补双层电离室；

对角插值模块，用于在对角方向根据所述填补双层电离室的第一填补电离室对所述填补双层电离室的第二填补电离室进行对角插值操作，得到中间双层电离室；

横竖插值模块，用于在横竖方向对所述中间双层电离室进行横竖插值操作，得到结果双层电离室；

消补模块，用于对所述结果双层电离室进行消补操作，得到消补双层电离室；

分辨率判断模块，用于判断所述消补双层电离室是否满足预设的分辨率要求；

第一输出模块，用于若所述消补双层电离室满足所述分辨率要求，则输出所述消补双层电离室；

第二输出模块，用于若所述消补双层电离室不满足所述分辨率要求，则重复执行所述填补操作、所述对角插值操作、所述横竖插值操作以及所述消补操作，直至得到的所述消补双层电离室满足所述分辨率要求时，输出所述消补双层电离室。

为了解决上述技术问题，本申请实施例还提供一种计算机设备，采用了如下所述的技术方案：