[发明专利]指纹识别模组及指纹识别方法、显示装置在审
申请号: | 202110854065.2 | 申请日: | 2021-07-27 |
公开(公告)号: | CN113505749A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 韩城;李鑫;关新兴;吴淞全;吴启晓;张智辉;樊星;李彦松 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李弘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 指纹识别 模组 方法 显示装置 | ||
1.一种指纹识别模组,包括:
衬底基板;
光线会聚层,设置于所述衬底基板上,被配置为将指纹反射的杂散反射光线进行全反射会聚;
感光层,设置于所述衬底基板及所述光线汇聚层之间,被配置为接收所述光线会聚层会聚后的所述杂散反射光线以及经指纹反射的主反射光线以生成指纹信号。
2.根据权利要求1所述的指纹识别模组,其中,所述光线会聚层包括:
第一电极层,设置于所述感光层上;
多个第一微结构单元,设置于所述第一电极层上;
多个第二微结构单元,设置于所述第一电极层上,与所述第一微结构单元间隔设置,且所述第二微结构单元与第一微结构单元的交界处形成斜坡面,所述斜坡面与第一电极层之间为锐角;
第二电极层,设置于第二微结构单元远离所述感光层的一侧;
其中,所述第一电极层和所述第二电极层被配置为:在所述第一电极层与所述第二电极层之间形成电场,使所述第二微结构单元的折射率升高至大于所述第一微结构单元的折射率,以将入射至所述斜坡面的所述杂散反射光线反射至所述感光层。
3.根据权利要求2所述的指纹识别模组,其中,所述第二微结构单元的折射率升高至为所述第一微结构单元的折射率的1.1~1.2倍。
4.根据权利要求2所述的指纹识别模组,其中,所述斜坡面与所述第一电极层之间的锐角θ满足:
arcsin(n1/n2)≤θ<90°
其中,n1表示第一微结构单元的折射率,n2表示第二微结构单元的折射率。
5.根据权利要求2所述的指纹识别模组,其中,所述第一微结构单元为截面为倒梯形的条形结构,所述第二微结构单元为截面为正梯形的条形结构。
6.根据权利要求2所述的指纹识别模组,其中,所述第一微结构单元为截面为倒梯形的块状结构,所述第二微结构单元为截面为正梯形的块状结构,且多个所述第一微结构单元与多个所述第二微结构单元间隔阵列排布。
7.根据权利要求5或6所述的指纹识别模组,还包括:
平坦层,设置于所述第一微结构单元及所述第二微结构单元上,且与所述第二微结构单元一体成型。
8.根据权利要求5或6所述的指纹识别模组,其中,所述第一电极层包括多个第一电极单元,且所述第一电极单元在所述衬底基板上的正投影与所述第二微结构单元靠近所述感光层的底面在所述衬底基板上的正投影重合。
9.根据权利要求8所述的指纹识别模组,其中,所述第二电极层包括面状电极层结构;或者,所述第二电极层包括多个第二电极单元,且所述第二电极单元在所述衬底基板上的正投影与所述第一电极单元在所述衬底基板上的正投影重合。
10.根据权利要求2所述的指纹识别模组,还包括:
触控传感器,被配置为采集指纹位置的压力信息,基于所述压力信息生成电信号用以形成所述第一电极层及所述第二电极层之间的电场。
11.一种显示装置,包括如权利要求1-10任一项所述的指纹识别模组。
12.根据权利要求11所述的显示装置,其中,所述显示装置还包括显示面板,所述指纹识别模组包括光线会聚层、感光层、衬底基板以及触控传感器,所述光线会聚层、所述感光层以及所述衬底基板沿远离所述显示面板的方向依次层叠设置于所述显示面板的背光面,所述触控传感器设置于所述显示面板的出光面。
13.一种指纹识别方法,应用于指纹识别模组,所述指纹识别模组包括依次层叠设置的衬底基板、感光层以及光线会聚层;所述方法包括:
通过所述光线会聚层将指纹反射的杂散反射光线进行全反射会聚;
通过所述感光层接收所述光线会聚层会聚后的所述杂散反射光线以及经指纹反射的主反射光线以生成指纹信号。
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