[发明专利]一种光源芯片阵列散热结构有效

专利信息
申请号: 202110814408.2 申请日: 2021-07-19
公开(公告)号: CN113659426B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 陈琅;李特;王贞福;于学成 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024;H01S5/40;H01L23/367;H01L23/473;H01L33/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 赵逸宸
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光源 芯片 阵列 散热 结构
【权利要求书】:

1.一种光源芯片阵列散热结构,包括至少30个光源器件叠加组成的芯片阵列序列,各光源器件均设置有用于降温的冷却热沉,所述各冷却热沉均设置有用于冷却液流通的入水口和出水口,且各冷却热沉的入水口、出水口连通形成冷却液流道;

其特征在于:

所述冷却热沉至少两组,等流量条件下,设第n组内各冷却热沉的入水口压力和出水口压力差为Pn,与第n组相邻的第n+1组内各冷却热沉的入水口压力和出水口压力差为Pn+1,n为自然数,冷却液经第n组流入第n+1组,再由第n+1组流出至第n组后排出,Pn+1<Pn;

所述冷却热沉为两组时,第n+1组冷却热沉的数量为第n组冷却热沉数量的5%~20%,且Pn+1=(70%~80%)*Pn;

所述冷却热沉为三组时,第n+1组冷却热沉的数量为第n组冷却热沉数量的10%~25%,第n+2组冷却热沉的数量为第n组冷却热沉数量的10%~25%,且Pn+1=(70%~80%)*Pn,Pn+2=(50%~60%)*Pn。

2.根据权利要求1所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:

所述冷却热沉为30~50个时,分为两组;

所述冷却热沉为60~80个时,分为三组。

3.根据权利要求1或2所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:所述第n+1组冷却热沉包括自上而下相互层叠设置的上密封叠片、上冷却叠片、导流叠片、下冷却叠片和下密封叠片;所述导流叠片端部设置有减压孔。

4.根据权利要求3所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:所述下密封叠片(5)上设置相互隔离的第一入水口(6)和第一出水口(7);所述下冷却叠片(4)上设置相互隔离的第一镂空微结构(8)和第二镂空微结构(9);所述第一镂空微结构(8)的位置对应于第一入水口(6);所述第一镂空微结构(8)内设有由若干个筋板构成的冷却通道(10);所述第二镂空微结构(9)的位置对应于第一出水口(7);

所述导流叠片(3)上设置相互隔离的第二入水口(11)、第三镂空微结构(12)与减压孔;所述第二入水口(11)的位置对应于第一镂空微结构(8);所述减压孔的位置对应于若干个冷却通道(10);所述上冷却叠片(2)上设有相互隔离的第三入水口(14)、第二出水口(15)、第四镂空微结构(16);所述第三入水口(14)与第二出水口(15)的位置分别对应于第二入水口(11)、第三镂空微结构(12);所述上密封叠片(1)上设置相互隔离第四入水口(18)与第三出水口(19),其位置分别对应于第三入水口(14)与第二出水口(15);

所述减压孔为面阵喷射结构(13);所述面阵喷射结构(13)由N×M个喷射孔组成,其中N为列,M为行;

所述第四镂空微结构(16)内,且与导流叠片(3)上面阵喷射结构(13)相对应的位置设有热量导引片(17);所述热量导引片(17)采用铜或金刚石或碳化硅制作,包括X个的筋条,X个的筋条构成X+1个微型通道(23),且每个筋条与其相邻筋条的距离相等;最外侧微型通道(23)的宽度大于内侧。

5.根据权利要求4所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:

所述M为3~6;所述第n+2组冷却热沉导流叠片减压孔的行数大于第n+1组冷却热沉导流叠片减压孔的行数,第n+3组冷却热沉导流叠片减压孔的行数大于第n+2组冷却热沉导流叠片减压孔的行数。

6.根据权利要求5所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:

所述喷射孔根据形状分为长方形喷射孔(131)和正方形喷射孔(132);所述长方形喷射孔(131)设有两列,且设置在面阵喷射结构(13)的两侧;所述正方形喷射孔(132)设有N-2列,设置在两列长方形喷射孔(131)之间;所述长方形喷射孔(131)的宽等于正方形喷射孔(132)的边长。

7.根据权利要求6所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:

所述筋条的长短有序分布,最外侧的三个筋条为短筋条,其余筋条长短交替分布。

8.根据权利要求7所述的光源芯片阵列散热结构,其特征在于:

所述第二镂空微结构(9)包括主流通区域(91)、两条相互对称的第一微通道(92)和两条相互对称的第二微通道(93);所述主流通区域(91)的位置对应于第一出水口(7);所述第一微通道(92)由主流通区域(91)延伸至第一镂空微结构(8);所述第二微通道(93)由主流通区域(91)延伸至第一微通道(92)边缘,且与第一微通道(92 )相隔离;

所述第三镂空微结构(12)与第二镂空微结构(9)完全相同;

所述第四镂空微结构(16)沿着第三入水口(14)两侧延伸至第二出水口(15)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110814408.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top