[发明专利]一种基于超构表面的光学边缘检测设计方法及装置在审
申请号: | 202110772414.6 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN113655548A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 胡跃强;张建;李苓;段辉高 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
主分类号: | G02B1/00 | 分类号: | G02B1/00;G02B3/00;G02B5/18 |
代理公司: | 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 | 代理人: | 董自亮 |
地址: | 410000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 表面 光学 边缘 检测 设计 方法 装置 | ||
1.一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:由第一偏振片、偏振多通道超构透镜和第二偏振片组成,并最终在成像面处成像;第一偏振片、偏振多通道超构透镜和第二偏振片顺次布置;当入射光为水平线偏振或者垂直线偏振时,出射光不加滤光时,三个像都会呈现出来;当两个偏振分量为左旋圆偏光和右旋圆偏光时,物体得原像和其边缘的像会同时出现在成像面上,但是如果两个偏振光的分量是水平线偏振和垂直线偏振的时候,物体的原像是不会出现在成像平面上的,而物体的边缘像会出现在成像平面上。
2.根据权利要求1所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:偏振多通道超构透镜包括电介质纳米柱阵列和衬底,电介质纳米柱阵列固定在衬底上。
3.根据权利要求2所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:所述的电介质纳米柱阵列的形状包括圆形、矩形或者不规则形状。
4.根据权利要求1所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:所述的单个像素中的电介质纳米柱数量没有限制,为单个或者为多个。
5.根据权利要求1所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:将透镜相位与闪耀光栅相位相结合,使得透镜的焦点偏离中心位置,每一套透镜都携带着不同的偏振信息,透镜的焦点个数根据需求设计,焦点数量大于等于三个。
6.根据权利要求1所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:对重叠的像进行偏振滤光可得到成像物体的轮廓,不同的偏振光的组合可获得不同的物体边缘,通过调控焦点的距离控制两个成像的偏移范围,由于不同的透镜所携带的偏振信息不同,当两束不同的偏振光叠加时,叠加部分的偏振态将发生变化,而非叠加部分的偏振态并没有发生改变,通过偏振片滤除叠加部分的偏振光得到物体的边缘部分。
7.根据权利要求1所述的一种基于超构表面的光学边缘检测装置,其特征在于:叠加部分的偏振光为非叠加偏振光的矢量和,非叠加偏振光包括线偏振光,圆偏振光。
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