[发明专利]一种镁合金表面MBT/植酸自修复体系的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110772080.2 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113564607B 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 王艳力;张文佳;闫大帅;张振华 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: C23F11/16 分类号: C23F11/16;C23F1/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 镁合金 表面 mbt 修复 体系 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种镁合金表面MBT/植酸自修复体系的制备方法,其特征在于,通过严格控制合成条件在镁合金表面制备植酸微裂纹存储器,接着将缓蚀剂2-巯基苯并噻唑(MBT)负载到植酸微裂纹存储器中,制成MBT/植酸自修复体系;按照下述步骤进行制备:

步骤1,植酸微裂纹存储器的制备:将植酸溶解在去离子水中制成植酸溶液,在减压条件下将经过预处理的镁合金片浸渍在植酸溶液中,一段时间后取出用去离子水将镁合金表面冲洗干净,然后在60℃的烘箱中干燥;

步骤2,MBT的负载:将MBT溶解在无水乙醇中形成溶液,在减压条件下将具有植酸微裂纹的镁合金片浸渍在MBT溶液中,一段时间后取出用无水乙醇将镁合金样品冲洗干净,然后在60℃的烘箱中干燥。

2.根据权利要求1所述的一种镁合金表面MBT/植酸自修复体系的制备方法,其特征在于,所述步骤1中,减压条件下真空度控制在0.06-0.08Mpa,植酸的浓度为9.5-10.5mg/mL,镁合金片在植酸溶液中浸渍140-160秒。

3.根据权利要求1所述的一种镁合金表面MBT/植酸自修复体系的制备方法,其特征在于,所诉步骤2中,MBT的浓度控制在38-40mg/mL,减压条件下真空度控制在0.08-0.1MPa,镁合金片在MBT溶液中的浸渍时间为9-11分钟,浸渍完成后的冲洗方式为在镁合金片的一侧以160-170度的冲洗角度使无水乙醇从镁合金片的一侧缓慢流过整个区域,冲洗次数为5-6次。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工程大学,未经哈尔滨工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110772080.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top