[发明专利]用于工作台系统的载物台在审
申请号: | 202110766480.2 | 申请日: | 2017-06-12 |
公开(公告)号: | CN113485074A | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | S·M·J·詹森斯;B·D·肖尔滕;S·N·L·唐德斯;T·范达姆;P·奥韦尔谢伊;T·M·斯帕恩-布尔克;S·A·特罗普 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董莘 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 工作台 系统 载物台 | ||
本发明涉及一种用于工作台系统的载物台。根据本发明,提供了多个空气轴承装置。每个空气轴承装置包括:空气轴承本体,所述空气轴承本体具有自由表面;主通道,所述主通道延伸穿过所述空气轴承本体并且具有在所述自由表面中的入口开口;辅通道系统,所述辅通道系统延伸穿过所述空气轴承本体并且具有在所述自由表面中的多个排放开口。所述辅通道系统中的流阻高于所述主通道中的流阻。
本申请是申请日为2017年6月12日、申请号为2017800408351、发明名称为“工作台系统、光刻设备、用于定位的方法以及器件制造方法”的中国发明专利申请的分案申请。
本申请要求于2016年7月1日提交的EP申请16177447.6和于2017年3月1日提交的EP申请17158730.6的优先权,这些申请通过整体引用并入本文。
技术领域
本发明涉及一种工作台系统、光刻设备、用于定位的方法以及其中利用了工作台系统的用于制造器件的方法。
背景技术
光刻设备是将期望图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如,光刻设备可以用于制造集成电路(IC)。在这种情况下,图案形成装置(备选地称为掩模或掩模版)可以用于生成要形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以转印到衬底(例如,硅晶片)上的目标部分(例如,包括部分裸片、一个或多个裸片)上。图案的转印是经由将图案成像到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常,单个衬底将包含相继被图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括:所谓的步进器,其中,通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分;以及所谓的扫描器,其中,通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案、同时在与该方向平行或反向平行的方向上同步扫描衬底来辐射每个目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。
光刻设备通常包括用于定位衬底和/或图案形成装置的工作台系统。衬底和图案形成装置需要被定位得非常准确。当衬底或图案形成装置不是完全平坦,而是例如,翘曲、凹陷、凸起或具有另一低阶泽尼克形状时,定位可能会受到不利影响。
WO2008/156366提出在通过使用加压气体射流将大致平面的物体夹持在载物台上之前使其平坦。载物台设置有被连接至真空源的凹陷以及适于发射加压气体射流的喷嘴。真空吸引力与由射流引起的排斥力之间的平衡使得物体漂浮在载物台上方一定距离处,并且在一定程度上校正了物体的与平坦形状的偏差。
已知的系统不是非常稳定。
发明内容
期望提供一种允许相对于表面准确定位物体的稳定系统和方法。
根据本发明的实施例,提供了一种用于定位物体的工作台系统,该工作台系统包括:
载物台,该载物台适于支撑要被定位的物体,
载物台设置有多个空气轴承装置,
其中,每个空气轴承装置包括:
空气轴承本体,该空气轴承本体具有自由表面,
主通道,该主通道延伸穿过空气轴承本体并且具有在自由表面中的入口开口,
辅通道系统,该辅通道系统延伸穿过空气轴承本体并且具有在自由表面中的排放开口,
其中,辅通道系统中的流阻高于主通道中的流阻。
在本发明的另一实施例中,提供了一种光刻设备,该光刻设备被布置为将图案从图案形成装置转印到衬底上,其中,光刻设备包括根据本发明的工作台系统。
在本发明的另一实施例中,提供了一种光刻设备,该光刻设备包括:
照射系统,该照射系统被配置为调节辐射束;
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