[发明专利]一种光刻机防静电保护装置

说明书

本发明公开了一种光刻机防静电保护装置，它包括外壳，所述外壳的顶部安装有第一PVC板，所述外壳的后表面安装有第二PVC板，所述外壳的底部一侧安装有底板，所述外壳的一侧安装有检测喷雾机构；本方案提供的光刻机防静电保护装置，通过启动电机，电机驱动丝杆在外壳内部转动，使丝杆上的活动板在丝杆的转动下在滑槽内部横向移动，在活动板移动时，带动底部的固定板以及安装在固定板上的颗粒物传感器、静电检测传感器以及雾化喷头移动，通过颗粒物传感器和静电检测传感器能够对外壳内部空气中以及光刻机上的颗粒物以及静电进行检测，通过启动水泵抽取水箱中的静电消除剂进行喷洒，从而对颗粒物以及静电进行清除。

技术领域

本发明属于光刻机保护装置技术领域，具体来说，涉及一种光刻机防静电保护装置。

背景技术

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻的意思是用光来制作一个图形，在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

然而，现有的技术还存在一定问题：

一、现有的光刻机防静电保护装置通常采用防静电外壳对光刻机表面进行防护，其防护性能较为单一，外壳内部空气颗粒物或外部的物品进入外壳内部后依旧会产生静电，且无法对内部浮尘颗粒物以及静电进行快速消除。

现有的光刻机防静电保护装置没有通过检测手段对光刻机所在的空间进行静电以及颗粒物检测，使光刻机使用环境无法被操作人员得知，从而造成静电或空气颗粒物无法根据环境状态进行清除

发明内容

针对现有技术存在的光刻机防护性能较为单一，外壳内部空气颗粒物或外部的物品进入外壳内部后依旧会产生静电，且无法对内部浮尘颗粒物以及静电进行快速消除，尤其是目前光刻机的使用环境无法被操作人员得知，从而造成静电或空气颗粒物无法根据环境状态进行清除的问题，本发明提出了一种光刻机防静电保护装置。

为实现上述技术目的，本发明采用的技术方案如下：

一种光刻机防静电保护装置，包括：

外壳，所述外壳的顶部安装有第一PVC板，所述外壳的后表面安装有第二PVC板，所述外壳的底部一侧安装有底板，所述外壳的一侧安装有检测喷雾机构；

其中，所述检测喷雾机构包括电机和隔板，所述电机安装于所述外壳的一侧，所述隔板固定连接于所述外壳的内部，所述隔板上开设有滑槽，所述电机的输出轴通过联轴器安装有丝杆，所述外壳的内壁上通过螺栓安装有轴承座，所述丝杆的一端插入所述轴承座的内环内壁，所述外壳的一侧设置有箱体，所述丝杆上螺纹连接有活动板，所述活动板滑动连接于所述滑槽的内部，且所述活动板的底部固定连接有固定板，所述固定板的底部分别安装有颗粒物传感器、静电检测传感器和雾化喷头，所述箱体的内部安装有水泵，所述水泵的进水口连通有进水管，所述水泵的出水口连通有出水管，所述出水管的一端贯穿所述外壳和所述固定板，且所述出水管的一端与所述雾化喷头相连通。

采用上述技术方案的一种光刻机防静电保护装置使用时，将光刻机安装在外壳的内部，其中，第一PVC板和第二PVC板，第一PVC板和第二PVC板能够屏蔽外部静电进入外壳内部，启动电机时，电机驱动丝杆在外壳内部转动，使丝杆上的活动板在丝杆的转动下在滑槽内部横向移动，在活动板移动时，带动底部的固定板以及安装在固定板上的颗粒物传感器、静电检测传感器以及雾化喷头移动，通过启动水泵抽取水箱中的静电消除剂进行喷洒。

进一步，所述底板的顶部安装有过滤机构，所述过滤机构包括水箱，所述水箱固定连接于所述底板的顶部，所述水箱的内部安装有高效过滤网和活性炭过滤网，且所述活性炭过滤网位于所述高效过滤网的底部，所述进水管的一端贯穿所述箱体、所述水箱、所述高效过滤网和所述活性炭过滤网，所述箱体固定连接于所述水箱的顶部。