[发明专利]一种耐辐照石英玻璃的制备方法及制备用坩埚和料架

权利要求书

1.一种耐辐照石英玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，槽沉锭料预处理；

步骤S2，调节槽沉炉内至微正压氢气氛围，槽沉锭料置于槽沉炉内高温摊铺成光学石英玻璃毛坯，同步预氢化处理；

步骤S3，维持炉内微正压氢气氛围，将光学石英玻璃毛坯随炉降温至一定温度；

步骤S4，增大氢气供给，提高炉内压力至一定压力后，对光学石英玻璃毛坯进行保温保压氢化处理；

步骤S5，维持氢气氛围，光学石英玻璃毛坯随炉慢降温，开炉得到成品；

所述步骤S2中包含以下流程：

步骤S11，槽沉锭料置于槽沉炉内的坩埚内；

步骤S12，槽沉炉内抽真空，并梯度升温至1600℃；

步骤S13，继续升温至1700~1900℃，并通入氢气至炉内压力0.015MPa，保温保压，槽沉锭料摊铺并进行预氢化；

所述步骤S3中，槽沉炉内压力0.015±0.005MPa , 将光学石英玻璃毛坯随炉降温至1100℃。

2.根据权利要求1所述的耐辐照石英玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S12中，槽沉炉内抽真空时，先抽真空至5Pa以下，然后向槽沉炉内充入氮气至0.015MPa 后，停止氮气充入，继续抽真空至5Pa。

3.根据权利要求1所述的耐辐照石英玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S12中，梯度升温至1600℃时，升温速率8~15℃/min；

或者，所述步骤S13中，升温至1700~1900℃时，2~8℃/min。

4.根据权利要求1所述的耐辐照石英玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S4中，槽沉炉内充氢气至炉内压力至8~12MPa，对光学石英玻璃毛坯进行保温保压氢化处理。

5.根据权利要求1所述的耐辐照石英玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S5中，光学石英玻璃毛坯随炉慢降温时，降温速率1~3.5℃/min。

6.用于权利要求1~5中任意一项所述的一种耐辐照石英玻璃的制备方法的坩埚，槽沉锭料置于坩埚内，其特征在于，包括：

坩埚本体，所述坩埚本体内部为顶面敞口的容腔；

气孔，所述气孔贯通开设于容腔底部。

7.根据权利要求6所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚本体为圆形或者方形；所述坩埚本体为方形时，所述坩埚本体的棱角处采用对接条铸接，并通过多个加固条进行加固。

8.用于权利要求1~5中任意一项所述的一种耐辐照石英玻璃的制备方法的料架，整体于槽沉炉内，槽沉锭料置于坩埚内后放置于料架上，其特征在于，包括：

外壳，两端贯通的腔体结构，侧壁上开设有若干进气孔；

多根加强筋，竖向安装于所述外壳内壁；

多根支撑杆，设置于所述外壳内部；

其中，所述加强筋上开设有多个安装位孔，所述支撑杆水平设置于外壳内部，多根支撑杆与对应的加强筋上同一水平位置的安装位孔连接将外壳的内部分为至少两个供坩埚放置的放置区。