[发明专利]一种磁体表面处理装置、系统及钕铁硼磁体的表面处理方法

说明书

本发明涉及一种磁体表面处理装置、系统及钕铁硼磁体的表面处理方法。本发明的磁体表面处理装置包括：主轴和缠绕于所述主轴上的螺旋回转通道；所述主轴用于提供支撑；所述螺旋回转通道螺旋缠绕在主轴上，用于装载、传送磁体。该方法是将钕铁硼磁体放在螺旋状回转装置通道中，在主轴振动系统及重力的作用下，由螺旋状回转装置通道的顶部，在处理液充分浸泡下振动滑落至底部，从而完成表面处理。本发明的钕铁硼磁体表面处理装置和系统在保证良好的清洗和钝化成膜质量的同时，占地较小，且大幅度提高了生成效率，单台装置实现了任意尺寸、形状钕铁硼磁体的清洗和钝化要求。

技术领域

本发明属于磁体表面处理领域，涉及一种磁体表面处理装置、系统及钕铁硼磁体的表面处理方法，尤其适用于自动线对不同尺寸、形状磁体批量进行表面处理。

背景技术

近年来烧结钕铁硼永磁材料的市场需求以及产业规模正在迅速地发展，其应用领域涵盖了现代家电、工业电机、微电子马达、新能源汽车等诸多行业。但其在推广中均存在一定的弊端，这些磁性材料在与空气、水分接触的过程中易被腐蚀导致性能发生变化，因此对其表面进行表面处理是必不可少的。

钕铁硼磁体表面处理主要包括表面前处理的除油、酸洗、水洗和钝化过程，以及后续的电镀、喷涂、真空镀膜等。而钕铁硼磁体表面处理技术的核心是设备及方法。现有磁体表面处理装置主要是滚筒、挂件。

滚筒处理主要适用于小件的磁体产品，具有上下料简易，生产效率高等优点，但生产过程易磕边，表面处理后外观不均匀，且无法处理薄片和尺寸较大的磁体产品。挂件主要适用于大件磁体产品的表面处理，具有生产过程无磕边，表面处理后外观均匀等优点，但生产效率低下。采用滚桶和挂件的表面处理装置虽然能解决大部分产品的表面处理，但在实际生产过程中仍存在部分磁体产品，无法单独采用上述任一种表面处理方式进行表面处理，或处理效率低、或处理后导致次品率高，比如较小的薄片磁体产品以及厚度较大的磁体产品。不同的磁体产品需要配备不同的表面处理装置，增加了生产和管理成本。

例如，专利文献CN106148927公开了一种大尺寸磁体滚筒表面处理的装置及方法；专利文献CN106435678B公开了一种特定滚筒装有钢珠的表面处理方法；专利文献CN207537583U公开了一种大规格的钕铁硼磁体挂镀时专用工具，上述处理装置或处理方法均无法满足任意尺寸、形状的钕铁硼磁体的表面处理需求，难以提高表面处理效率、降低表面处理导致的次品率。

发明内容

针对上述现有技术的不足，本发明提供：

一种磁体表面处理装置，所述装置包括主轴和缠绕于所述主轴上的螺旋回转通道。

根据本发明的实施方案，所述主轴用于提供支撑。

根据本发明的实施方案，所述螺旋回转通道螺旋缠绕在主轴上，用于装载、传送磁体。

根据本发明的实施方案，所述螺旋回转通道为螺旋状。优选地，本发明对所述螺旋回转通道的圈数没有特别限制，可根据待表面处理磁体的需求量进行合理设计。优选地，所述圈数为1-5圈。

根据本发明的实施方案，在所述螺旋回转通道上设置有通道入口和通道出口，在竖直方向上，所述通道入口高于所述通道出口。

优选地，所述通道入口和通道出口分别设置在靠近所述螺旋回转通道的两端处。作为实例，当所述螺旋回转通道从上至下的每圈的内径逐渐变大时，所述通道入口设置在靠近所述螺旋回转通道的圆心处，所述通道出口在所述通道的最外层。

优选地，所述螺旋回转通道的通道坡度选自0-45°，例如通道坡度为10°、15°、20°、25°、30°、35°、40°或45°。

优选地，所述螺旋回转通道的内壁材质选自非金属复合材料。优选地，所述非金属复合材料选自聚氨酯、聚四氟乙烯、聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯和聚酯多元醇等。