[发明专利]一种磁体表面处理装置、系统及钕铁硼磁体的表面处理方法在审
| 申请号: | 202110744218.8 | 申请日: | 2021-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN113593876A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
| 发明(设计)人: | 史丙强;周彬;祁晓平;阎坤;邵梅竹 | 申请(专利权)人: | 烟台正海磁性材料股份有限公司;南通正海磁材有限公司 |
| 主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02 |
| 代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 张炳楠 |
| 地址: | 264006 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 磁体 表面 处理 装置 系统 钕铁硼 方法 | ||
1.一种磁体表面处理装置,所述装置包括主轴和缠绕于所述主轴上的螺旋回转通道。
2.根据权利要求1所述的表面处理装置,其特征在于,所述主轴用于提供支撑;优选地,所述螺旋回转通道螺旋缠绕在主轴上,用于装载、传送磁体;
优选地,所述螺旋回转通道为螺旋状;
优选地,在所述螺旋回转通道上设置有通道入口和通道出口,在竖直方向上,所述通道入口高于所述通道出口;
优选地,所述通道入口和通道出口分别设置在靠近所述螺旋回转通道的两端处;例如,当所述螺旋回转通道从上至下的每圈的内径逐渐变大时,所述通道入口设置在靠近所述螺旋回转通道的圆心处,所述通道出口在所述通道的最外层;
优选地,所述螺旋回转通道的通道坡度选自0-45°;
优选地,所述螺旋回转通道的内壁材质选自非金属复合材料;优选地,所述非金属复合材料选自聚氨酯、聚四氟乙烯、聚丙烯、聚乙烯、聚氯乙烯和聚酯多元醇等;
优选地,所述螺旋回转通道选自封闭型或开放式;例如,所述螺旋回转通道的剖面形状选自封闭回字型或开放式U字型。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理装置,其特征在于,所述螺旋回转通道内还包括传动介质,所述传动介质可以在所述螺旋回转通道移动;
示例性地,所述磁体与传动介质的重量比6:1,10:1,15:1,20:1等;
优选地,所述传动介质的形状选自球体;
优选地,所述球体的直径小于所述磁体在任意方向上的长度;
优选地,所述传动介质选自耐酸碱的耐磨材料;优选地,所述传动介质的密度选自2~4×103kg/m3。
4.根据权利要求1-3任一项所述的表面处理装置,其特征在于,所述表面处理装置还包括振动单元;
优选地,所述振动单元连接在所述主轴上,所述螺旋回转通道可以在振动单元的作用下产生振动;
优选地,所述螺旋回转通道的外侧还设置有保温层;
优选地,所述保温层包括保温材料;
优选地,在所述通道出口处,还设置圆孔;优选地,所述圆孔的直径小于所述传动介质的直径;
优选地,在所述通道出口末端还设置振动分选筛单元。
5.一种磁体表面处理系统,其特征在于,所述表面处理系统包括权利要求1-4任一项所述的磁体表面处理装置。
6.根据权利要求5所述的磁体表面处理系统,其特征在于,所述表面处理系统还包括处理液回收装置;
优选地,所述处理液回收装置位于所述处理液储槽与所述通道出口之间,所述处理液可以通过所述通道出口处的圆孔流入处理液回收装置内;
优选地,所述表面处理系统还包括处理液装置;
优选地,所述处理液装置包括处理液储槽,所述处理液储槽分别与所述通道入口和处理液回收装置相连,例如,可通过处理液管道相连;
优选地,所述处理液储槽还设置有加热单元,以实现加热处理液储槽内的处理液;
优选地,所述处理液装置还设置有过滤单元,所述过滤单元设置在所述处理液储槽与所述通道入口之间。
7.根据权利要求5或6所述的磁体表面处理系统,其特征在于,所述表面处理系统还包括预清洗装置,所述预清洗装置与所述通道入口连接;
优选地,所述表面处理系统还包括超声清洗装置,所述超声清洗装置与所述振动分选筛单元连接;
优选地,所述表面处理系统还包括固化装置,所述固化装置与所述超声清洗装置连接;
优选地,所述固化装置选自烘箱、烘道等;
优选地,所述表面处理系统还包括回传装置;所述回传装置设置在所述振动分选筛单元和所述通道入口之间。
8.权利要求1-4任一项所述的磁体表面处理装置或权利要求5-7任一项所述的磁体表面处理系统在钕铁硼磁体的表面处理方面的应用。
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