[发明专利]一种测量谷物光滑度的方法及装置在审
| 申请号: | 202110743114.5 | 申请日: | 2014-02-24 |
| 公开(公告)号: | CN113607642A | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
| 发明(设计)人: | 乔蒂·普拉卡什·米什拉;玛尼·库马尔;戈帕拉克里希南·特里库尔;比斯米拉希·卡尼;耶·昂 | 申请(专利权)人: | 布勒(印度)私人有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/85 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 周蕾 |
| 地址: | 印度班*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 测量 谷物 光滑 方法 装置 | ||
1.一种测量谷物光滑度的装置,包括:
通道(3),用于供给谷物(5),特别是稻谷;
障碍物(7),其设置在通道(3)上,以减慢落到障碍物上的谷物,这样谷物流在障碍物(7)上形成谷堆(9);
图像捕捉装置(13),其面对障碍物(7)放置;和
CPU;
其中图像捕捉装置(13)设置为从侧向捕捉谷堆(9)的图像,使得谷堆的上表面在捕捉的图像中形成为曲线,且CPU配置为确定曲线下方的面积,从而表示谷物的光滑程度。
2.根据权利要求1所述的装置,其中障碍物(7)具有排放口(11),特别是孔,作为谷物出口。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中障碍物(7)形成为容器,特别是漏斗,用于收集谷物。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,其中由CPU确定的面积与谷物光滑度成比例,谷堆曲线下方的面积越大,涉及光滑程度越低,而谷堆曲线下方的面积越小,涉及光滑程度越高。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,其中图像捕捉装置(13)是数码图像捕捉装置。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,进一步包括:
光源(15),用于将光投射到谷物上,特别是落于障碍物(7)上的谷物上。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,进一步包括:
收集元件(19),特别是漏斗,其具有定位在障碍物(7)上方的排放口。
8.根据前述权利要求中的任一项所述的装置,其中通道(3)构建为用于传送谷物的主通道的旁路。
9.一种用于测量谷物光滑度的方法,包括:
穿过通道(3)供给谷物(5),特别是稻谷;
通过障碍物(7)减慢谷物下落,这样谷物流在障碍物上形成谷堆(9);
利用图像捕捉装置(13)从侧向捕捉谷堆(9)图像,使得谷堆的上表面在捕捉的图像中形成为曲线;并且
确定曲线下方的面积,其中曲线下方的面积用于表示谷物的光滑程度,谷堆的上表面形成的凸起下方的面积越大,涉及光滑程度越低,而谷堆的上表面形成的凸起下方的面积越小,涉及光滑程度越高,或者分析曲线形状。
10.根据权利要求9所述的方法,其中曲线用于表示谷物的光滑程度,谷堆的上表面形成的凸起的更陡峭部分表示光滑程度越低,而较不陡峭部分表示光滑程度越高。
11.根据权利要求9所述的方法,其中曲线下方的面积通过连接到图像捕捉装置的CPU来确定。
12.根据权利要求9或11所述的方法,其中谷物通过收集元件(19)、特别是漏斗从通道(3)收集,并且从障碍物(7)上的收集元件(19)经由收集元件(19)的排放口排放。
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