[发明专利]一种氧化锆表面处理工艺在审
申请号: | 202110739969.0 | 申请日: | 2021-06-30 |
公开(公告)号: | CN113387727A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 罗友明;鄢新章;廖祥;李蛟;马勤;刘谋山;刘帅 | 申请(专利权)人: | 成都贝施美生物科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C03C8/00;C03C10/00;C03C15/00;A61K6/20;A61K6/836;A61K6/831 |
代理公司: | 成都坤伦厚朴专利代理事务所(普通合伙) 51247 | 代理人: | 肖然 |
地址: | 610100 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化锆 表面 处理 工艺 | ||
1.一种釉膏混合物,其特征在于:包括釉液和玻璃粉,所述玻璃粉和釉液的质量比为1:0.8~3。
2.根据权利要求1所述的一种釉膏混合物,其特征在于:按照质量百分数计,所述玻璃粉的配方为:SiO2+Al2O3 60~75%,CaO+MgO 0.5~5%,K2O+Na2O+Li2O 15~25%,ZrO2+P2O52~10%。
3.根据权利要求2所述的一种釉膏混合物,其特征在于:所述SiO2和Al2O3的质量比为:1:13~20,MgO和CaO的质量比为:1:2~4,Na2O、K2O和Li2O的质量比为:1:2~4:10~20,ZrO2和P2O5的质量比为:1:1~3。
4.一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:在高温条件下,氧化锆预烧结体与含硅溶液中的硅烧结后,进行喷砂处理;处理后,在氧化锆的表面涂刷釉膏混合物,并进行热处理。
5.根据权利要求4所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:所述含硅溶液为纳米二氧化硅分散液,二氧化硅的含量为0.5~10%,粒径为10nm,溶剂为丙二醇、丙三醇和1,3-丁二醇中的一种。
6.根据权利要求4所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:所述氧化锆预烧结体与含硅溶液的烧结温度为1450~1500℃,时间为1~3h。
7.根据权利要求4所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:所述釉膏混合物为釉液和玻璃粉混合物,所述玻璃粉的粒径小于20μm,玻璃粉和釉液的质量比为1:0.8~3。
8.根据权利要求7所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:按照质量百分数计,所述玻璃粉的配方为:SiO2+Al2O3 60~75%,CaO+MgO0.5~5%,K2O+Na2O+Li2O 15~25%,ZrO2+P2O5 2~10%。
9.根据权利要求8所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:所述SiO2和Al2O3的质量比为:1:13~20,MgO和CaO的质量比为:1:2~4,Na2O、K2O和Li2O的质量比为:1:2~4:10~20,ZrO2和P2O5的质量比为:1:1~3。
10.根据权利要求1所述的一种氧化锆表面处理工艺,其特征在于:所述热处理的过程为:在500℃的温度下,以40~60℃/min的升温速率,升温至700~880℃,在该温度下保温3~10min;然后以40~60℃/min的升温速率,升温至900~1100℃,在该温度下保温3~10min;最后以-30~-50℃/min的降温速率,降温至650℃。
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