[发明专利]可同浴染色的阴离子嵌段硅油的制备方法及其应用工艺

说明书

本发明公开了可同浴染色的阴离子嵌段硅油的制备方法及其应用工艺，步骤如下：将双端环氧硅油，在有机溶剂中与聚醚胺和多乙烯多胺进行缩合反应，得到氨基封端的三元嵌段硅油；将二元羧酸酐加入上述氨基封端的三元嵌段硅油中，搅拌反应，加入醇胺类化合物得到阴离子改性的三元嵌段硅油柔软剂。本发明的优点有：对嵌段硅油进行阴离子改性，使得有机硅柔软剂可以自乳化分散于水中，并且与前处理和染色工艺中的原料离子性相同，因而避免了阴阳离子相互吸附导致物料沉淀的问题，实现了染色和柔软同浴工艺，因而缩减了后整理工艺，大大提高了生产的效率，也避免了后整理工艺中经常出现的色渍色斑问题。

技术领域

本发明涉及织物印染技术领域，尤其涉及一种染色用柔软剂。

背景技术

印染生产工艺主要由前处理，染色和后整理三个工艺组成。现有技术方案通常都是在前处理和染色后，清洗干净织物，再进行柔软整理工艺，工艺耗时长，工作效率低，之所以要分开处理，主要因为前处理和染色的工艺中主要物料都是阴离子结构，而柔软剂大多是阳离子或弱阳离子结构，因此不能同浴使用。这导致生产工序不能减少，水消耗高，能源消耗高，产能低等生产成本高的问题，还导致环境污染严重。因此，研发一种能够在染色同时进行柔软整理的柔软剂是非常具有前景的。

中国专利公开号为“CN 105949468 A”，名为《一种阴离子型线性共聚有机硅柔软整理剂的制备方法》，其公开的制备方法包含：本发明包括1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的有机硅高分子扩链反应、甲代烯丙基氯与端含氢硅油的加成反应、端含氯侧含氢硅油的制备、烯酸与侧含氢的加成反应、有机硅高分子链段的氨解、端环氧聚醚的制备和有机硅高分子链段与聚醚链段的缩聚反应。本发明对有机硅链段进行了阴离子改性，提高了乳液对阴离子的配伍性，阴离子的引入还对乳液的耐高温、耐盐、耐碱性能大幅度提高，使得产品可以适用于染色同浴加工。但是该工艺制备步骤复杂，研发一种工序简单的柔软剂制备方法是有前景的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可同浴染色的阴离子嵌段硅油的制备方法，以解决现有技中没有能在染色工序中使用柔软剂，导致生产工序不能缩减的问题。

为了达到上述目的本发明采用如下技术方案：

一种可同浴染色的阴离子嵌段硅油的制备方法，步骤如下：

(1)将51-58份双端环氧硅油，在35-45份有机溶剂中与2-8份聚醚胺和0.2-1份多乙烯多胺进行缩合反应，得到氨基封端的三元嵌段硅油；

(2)将2.5-4.5份二元羧酸酐加入90-95份所述氨基封端的三元嵌段硅油中，搅拌，加入3-5份醇胺类化合物，搅拌，得到阴离子改性的三元嵌段硅油柔软剂。

进一步地，

所述双端环氧硅油选自双端环氧聚醚硅油，分子量为3000-25000。

进一步地，

所述有机溶剂选自乙醇，异丙醇，异辛醇，丙二醇，乙二醇单丁醚，二乙二醇单丁醚，丙二醇单丁醚，二丙二醇单丁醚。

进一步地，

所述聚醚胺的分子结构式为NH₂[CH₂(CH₃)CH₂O]m[CH₂CH₂O]nCH₂(CH₃)CH₂NH₂。

进一步地，

所述多乙烯多胺选自二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、五乙烯六胺、哌嗪、胺乙基哌嗪、三乙烯二胺、六乙烯四胺。

进一步地，

所述二元羧酸酐选自1，4-丁二酸酐，顺丁烯二酸酐，戊二酸酐、己二酸酐、邻苯二甲酸酐。