[发明专利]一种纳米抗菌母粒的制备方法

权利要求书

1.一种纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将氧化石墨烯GO与去离子水配置成悬浮液后在5000～20000Hz下超声分散0.1～1h，然后加入四乙氧基硅烷，再将溶液pH调整至8～10，在70～100rpm下搅拌0.5～3h，过滤、洗涤、干燥得到SiO₂/GO纳米材料；

(2)将去离子水、步骤(1)制得的SiO₂/GO纳米材料、吡咯烷酮溶液、硼氢化钠溶液混合后在5000～20000Hz下超声分散0.1～1h，然后在70～100rpm搅拌转速下加入AgNO₃溶液进行反应，反应温度为50～100℃，反应时间为1～5h，反应结束后将所得悬浮液过滤、洗涤、干燥得到Ag/SiO₂/GO纳米材料；

(3)将步骤(2)制得的Ag/SiO₂/GO纳米材料与偶联剂在60～90℃下混合5～30分钟后，冷却至室温，得到表面修饰的Ag/SiO₂/GO纳米材料；

(4)将步骤(3)得到的表面修饰的Ag/SiO₂/GO纳米材料与聚乙烯粉料在500～750rpm搅拌转速下混合15～30分钟，得到混合粉料，然后用双螺杆挤出造粒机将混合粉料加热至150～200℃熔融后挤出，经风冷和切粒，得到纳米抗菌母粒。

2.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述的GO的平均直径为300～500nm。

3.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述的悬浮液浓度为0.3-0.5g/L。

4.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述的GO与四乙氧基硅烷的质量比为4～6：1。

5.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述的吡咯烷酮溶液的质量分数为1％，所述的硼氢化钠溶液的质量分数为1％，所述的AgNO₃溶液的质量分数为1％。

6.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述的吡咯烷酮与SiO₂/GO纳米材料的质量比1：2-4，硼氢化钠与SiO₂/GO纳米材料的质量比为1:20-30，AgNO₃与SiO₂/GO纳米材料的质量比为1:5-8，去离子水与SiO₂/GO纳米材料的质量比为500-1500:1。

7.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述的偶联剂为铝酸酯偶联剂PN-827。

8.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(3)中所述的偶联剂的用量为Ag/SiO₂/GO纳米材料质量的0.5～1％。

9.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(4)中所述的聚乙烯粉料为LDPE、LLDPE和mLLDPE中的至少一种，所述聚乙烯粉料的熔融指数为0.5～2.0g/10min。

10.根据权利要求1所述的纳米抗菌母粒的制备方法，其特征在于，步骤(4)中所述的表面修饰的Ag/SiO₂/GO纳米材料与聚乙烯粉料的质量比为1：2～5。