[发明专利]一种判断砷化镓晶体中线性孪晶长度的方法有效

专利信息
申请号: 202110709208.0 申请日: 2021-06-25
公开(公告)号: CN113427651B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 刘建忠;刘火阳;周铁军;易明辉 申请(专利权)人: 广东先导微电子科技有限公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;G06F17/11;C30B33/10;C30B29/42
代理公司: 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 代理人: 李琼芳;肖小龙
地址: 511517 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 判断 砷化镓 晶体 线性 长度 方法
【权利要求书】:

1.一种判断砷化镓晶体中线性孪晶长度的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1.预处理晶片,测量晶片头部一端线性孪晶的任意一端点到晶片侧面的垂直距离;

S2.根据线性孪晶和晶体角度偏转的方向和角度有关联性,得出线性孪晶长度计算公式:

H=Ltan(θ+β)式1

式1中,θ为任一晶面和孪晶面的夹角,θ+β为晶体端面和孪晶面的夹角,β为由一晶面往孪晶面偏转的度数,L代表晶片头部一端线性孪晶的任意一端点到晶片侧面的垂直距离,H表示需要切割的长度;

式2为根据晶面指数计算晶面夹角的公式,(h,k,l)代表晶面指数,式2中的h1、k1和l1代表任一晶面的晶面指数;式2中的h2、k2和l2代表孪晶面的晶面指数;

S3.通过计算的切割长度,按照切割的长度,对待检测晶片切除相应的孪晶;

其中,S1中,所述预处理为:从晶体头部切取待检测晶片,对待检测晶片进行化学药剂腐蚀,显示出晶片头部和晶片尾部两面的线性孪晶;所述化学药剂为氢氧化铵、过氧化氢和纯水的混合药液;所述混合药液中,氢氧化铵、过氧化氢和纯水的质量比为1-3:1-3:1;

所述晶面为(100)面,所述孪晶面为(111)面。

2.根据权利要求1所述的判断砷化镓晶体中线性孪晶长度的方法,其特征在于,所述对待检测晶片进行化学药剂腐蚀包括:将待检测晶片浸泡于所述混合药液中腐蚀2-8min。

3.根据权利要求1所述的判断砷化镓晶体中线性孪晶长度的方法,其特征在于,从晶体头部切取待检测晶片的切取方法为:使用内圆切片机或单线切割机,从晶体的头部即线性孪晶出现的端面作为切割的起始端。

4.根据权利要求3所述的判断砷化镓晶体中线性孪晶长度的方法,其特征在于,所述晶体头部按600-1200μm的厚度切取。

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