[发明专利]磁距165μm磁编码器磁铁及磁组的制备方法

说明书

本发明涉及一种磁距165μm磁编码器磁铁及磁组的制备方法，包括：按照高精密磁铁选择各种原料配比；将选择好的各种原料使用特定模具成型；在1200～1250度高温下烧结而成；将烧结好的毛坯加工成需要的尺寸，使加工好的磁铁素材的内部磁分子分布均匀、磁偏小于2％；将加工好的磁铁与相应的衬套结合，然后再次精加工，以使磁铁及磁组件的型位公差小于0.03MM；将高精密的磁铁及磁组件通过旋转磁化装置一极一极逐个磁化成磁距为165μm的多极磁铁。本申请提供的制备方法制备得到的磁铁及磁组件，主要优点是：1，径向多极；2，平面多极：3，磁距极小165μm，装配后跳动度小，动平衡好；4，马达及器件体积小型化，轻型化，精密化，同时可以大大提升智能化的精度。

技术领域

本发明涉及磁编码器技术领域，特别是涉及磁距165μm磁编码器磁铁及磁组的制备方法。

背景技术

磁铁产品种类复杂多样应用广泛，无论实在家电，办公用品，医疗，军事装备，新能源汽车，通讯智能以及高新技术产业发展中起到重要作用；尤其未来通讯智能方面的深挖，对磁编码器磁铁的要求更为精细，那么极距500μm以下的多极磁铁是其中的佼佼者。精密磁铁生产最为关键，磁化技术是磁编码器成败的重要要数，然而传统磁化工艺方法(一体线圈磁化)，均在500μm以上磁距，一旦充磁电流加大，线圈就被烧坏短路，这样就被限制使用范围，精细步进就难以实现。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种多极磁编码器磁铁及磁组极距极小、磁力分布均匀的磁距165μm磁编码器磁铁及磁组的制备方法。

为实现本发明的目的，本发明采用如下技术方案：

一种磁距165μm磁编码器磁铁及磁组的制备方法，包括如下步骤：

按照高精密磁铁选择各种原料配比；

将选择好的各种原料使用特定模具成型；

在1200～1250度高温下烧结而成；

将烧结好的毛坯加工成需要的尺寸，使加工好的磁铁素材的内部磁分子分布均匀、磁偏小于2％；

将加工好的磁铁与相应的衬套结合，然后再次精加工，以使磁铁及磁组件的型位公差小于0.03MM；

将高精密的磁铁及磁组件通过旋转磁化装置一极一极逐个磁化成磁距为165μm的多极磁铁。

采用本申请提供的制备方法制备得到的磁铁及磁组件，通过系统性的加工工艺而成，主要优点是：1，径向多极；2，平面多极：3，磁距极小165μm，装配后跳动度小，动平衡好；4，马达及器件体积小型化，轻型化，精密化，同时可以大大提升智能化的精度。

在其中一个实施例中，所述高精密磁铁采用放射性铁氧体磁铁，所述放射性铁氧体磁铁包括50～70％高性能造粒粗粉料、25～50％高性能细粉料和0.03～0.35％添加剂。

在其中一个实施例中，所述将选择好的原料使用特定模具成型，确保取向磁场均匀，极差在5％以内。

在其中一个实施例中，所述在1200～1250度高温下烧结而成，以使各原料在高温下固相反应充分，确保在磁铁内部分布均匀，磁化后磁力变化在2％以内。

在其中一个实施例中，所述将高精密的磁铁及磁组件通过旋转磁化装置一极一极逐个磁化的精度小于1％。

附图说明

图1为采用实施例1中的制备方法测试得到的波形图；

图2为采用实施例3中的制备方法测试得到的波形图；

图3为采用实施例4中的制备方法测试得到的波形图；

图4为采用实施例2中的制备方法测试得到的波形图；

图5为一实施例中旋转磁化装置的结构示意图。