[发明专利]一种垂直膜面方向具有硬磁性能且在面内方向具有软磁性能的磁性薄膜及其制备方法有效
申请号: | 202110708000.7 | 申请日: | 2021-06-24 |
公开(公告)号: | CN113539607B | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 于广华;刘冕宸;徐秀兰;冯春;滕蛟;李明华 | 申请(专利权)人: | 广东麦格智芯精密仪器有限公司 |
主分类号: | H01F10/16 | 分类号: | H01F10/16;H01F10/14;H01F41/18 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 528200 广东省佛山市南海区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 垂直 方向 具有 磁性 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种垂直膜面方向具有硬磁性能且在面内方向具有软磁性能的磁性薄膜,其特征在于,所述磁性薄膜是利用磁控溅射仪于室温下在基底材料上沉积而成,包括从下而上依次层叠的基底、AlNiCo永磁合金和Ag;所述AlNiCo永磁合金化学元素组成的质量百分含量包括:50-58%Fe、22-26%Co、12-16%Ni、7-9%Al和2-4%Cu;所述基底为热氧化的单晶硅基片,其表面氧化层的厚度为280-320nm,所述AlNiCo永磁合金的厚度为150-500nm,所述磁性薄膜中Ag的沉积厚度为5-20nm;
所述垂直膜面方向具有硬磁性能且在面内方向具有软磁性能的磁性薄膜的制备方法包括以下步骤:
(1)将基底材料进行清洗、干燥;
(2)利用磁控溅射仪于室温条件下通过直流溅射金属靶材,在基底材料上依次沉积AlNiCo永磁合金和Ag;所述磁控溅射仪的主真空室的本底真空度优于3.0×10-7Torr;步骤(2)中溅射发生过程中,通入氩气的气压为2.5-3mTorr,溅射功率为80-120W,所述氩气的纯度优于99.99%;所述金属靶材的纯度高于99.9%;
(3)将步骤(2)制备的薄膜材料从磁控溅射仪中取出,放入超高真空退后炉中,在真空度优于5.0×10-7Torr的条件下进行退火处理,退火温度为750℃-900℃,所述退火处理的时间为30-60min。
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