[发明专利]一种光刻胶及图案化方法有效
申请号: | 202110707464.6 | 申请日: | 2021-06-24 |
公开(公告)号: | CN113341650B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 霍建辉;卢克军;张宁 | 申请(专利权)人: | 北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐菲 |
地址: | 100000 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 图案 方法 | ||
1.一种光刻胶,其特征在于,包括树脂材料和感光剂,所述树脂材料发生去保护反应时能够产生羧酸和/或酚羟基,所述感光剂包括第一感光化合物和第二感光化合物,所述第一感光化合物的结构如式I所示,所述第二感光化合物如式II所示;
其中,R1、R2、R3和R4中的至少三者的结构如式III或式IV所示,剩余为氢基;R5为烷基或芳香基;R6为烷基、烷氧基或芳香基;
所述树脂材料为单体共聚物,所述单体共聚物的单体包括第一单体和第二单体中的至少一种,所述第一单体的结构如式V所示,所述第二单体的结构如式VI所示;
其中,R7为C4~C20的叔烷基;R8为氢基或C1~C4的烷基;n为1~10的整数。
2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述第二感光化合物在所述感光剂中的质量占比为10~20%,所述第一感光化合物在所述感光剂中的质量占比为80~90%。
3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述单体共聚物的单体还包括第三单体和第四单体,所述第三单体的结构如式VII所示,所述第四单体的结构如式VIII所示;
其中,R9为氢基或C1~C4的烷基。
4.根据权利要求3所述的光刻胶,其特征在于,所述第一单体在所述单体共聚物的单体中的质量占比为5~40%,所述第二单体在所述单体共聚物的单体中的质量占比为5~40%。
5.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料的重均分子量为5000~100000,所述树脂材料的分子量分布为2~5。
6.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料的重均分子量为5000~50000。
7.根据权利要求1~6任一项所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料和所述感光剂的质量比为100:0.5~10。
8.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶还包括有机碱。
9.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述有机碱包括含氮化合物。
10.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述有机碱包括一级脂肪胺、二级脂肪胺、三级脂肪胺、芳香胺、杂环胺、含氮化合物、酰胺衍生物和酰亚胺衍生物中的至少一种。
11.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料和所述有机碱的质量比为100:0.001~0.05。
12.一种图案化方法,其特征在于,包括:采用如权利要求1~11任一项所述的光刻胶形成光刻胶层,并采用包括G线、H线和I线的混合光源通过掩模板对所述光刻胶层进行曝光,然后显影去除所述光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。
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