[发明专利]一种光刻胶及图案化方法有效

专利信息
申请号: 202110707464.6 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113341650B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 霍建辉;卢克军;张宁 申请(专利权)人: 北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 唐菲
地址: 100000 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻胶,其特征在于,包括树脂材料和感光剂,所述树脂材料发生去保护反应时能够产生羧酸和/或酚羟基,所述感光剂包括第一感光化合物和第二感光化合物,所述第一感光化合物的结构如式I所示,所述第二感光化合物如式II所示;

其中,R1、R2、R3和R4中的至少三者的结构如式III或式IV所示,剩余为氢基;R5为烷基或芳香基;R6为烷基、烷氧基或芳香基;

所述树脂材料为单体共聚物,所述单体共聚物的单体包括第一单体和第二单体中的至少一种,所述第一单体的结构如式V所示,所述第二单体的结构如式VI所示;

其中,R7为C4~C20的叔烷基;R8为氢基或C1~C4的烷基;n为1~10的整数。

2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述第二感光化合物在所述感光剂中的质量占比为10~20%,所述第一感光化合物在所述感光剂中的质量占比为80~90%。

3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述单体共聚物的单体还包括第三单体和第四单体,所述第三单体的结构如式VII所示,所述第四单体的结构如式VIII所示;

其中,R9为氢基或C1~C4的烷基。

4.根据权利要求3所述的光刻胶,其特征在于,所述第一单体在所述单体共聚物的单体中的质量占比为5~40%,所述第二单体在所述单体共聚物的单体中的质量占比为5~40%。

5.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料的重均分子量为5000~100000,所述树脂材料的分子量分布为2~5。

6.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料的重均分子量为5000~50000。

7.根据权利要求1~6任一项所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料和所述感光剂的质量比为100:0.5~10。

8.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶还包括有机碱。

9.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述有机碱包括含氮化合物。

10.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述有机碱包括一级脂肪胺、二级脂肪胺、三级脂肪胺、芳香胺、杂环胺、含氮化合物、酰胺衍生物和酰亚胺衍生物中的至少一种。

11.根据权利要求8所述的光刻胶,其特征在于,所述树脂材料和所述有机碱的质量比为100:0.001~0.05。

12.一种图案化方法,其特征在于,包括:采用如权利要求1~11任一项所述的光刻胶形成光刻胶层,并采用包括G线、H线和I线的混合光源通过掩模板对所述光刻胶层进行曝光,然后显影去除所述光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。

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