[发明专利]一种卧式石英舟清洗设备

说明书

本发明公开了一种卧式石英舟清洗设备，包括清洗箱、驱动箱和电控箱，清洗箱的侧端固定有电控箱，顶端固定有驱动箱；其特征在于：清洗箱的内腔底部设有并排分布的水洗槽安装室和酸洗槽安装室，水洗槽安装室中安装有水洗槽，酸洗槽安装室中安装有酸洗槽；清洗箱、驱动箱的内部共同安装有能够实现石英舟工件在水洗槽、酸洗槽之间切换的机械手载具；机械手载具包括导向轨座、活动式龙门架、水平位移导向机构、水平位移驱动机构、竖向位移驱动机构和吊具组件。本发明结构设计合理，整个清洗工艺过程中石英舟可进行滚动，与清洗液之间产生相对运动，使石英舟因能够得到全面的清洗，清洗效果较好，避免造成扩散工艺过程的污染。

技术领域

本发明涉及半导体清洗设备技术领域，尤其涉及一种卧式石英舟清洗设备。

背景技术

硅片扩散工艺，是将硅片插在石英舟上，然后将石英舟连同硅片一起放入石英管，并一起放入高温扩散炉中，之后在炉管的尾部通入一定量含有扩散源的气体，在高温条件下，通过扩散源气体与硅片发生化学反应，完成扩散工艺。由于每次扩散工艺后，石英舟表面都会残存一定量扩散后的微粒，而石英舟又直接与硅片接触，因此，石英舟表面的清洁度直接影响到整个扩散工艺的质量。

现有的技术中，大多采用人工将清洗液倒入清洗槽中，然后将石英舟放入清洗槽内，通过浸泡的方式对石英舟清洗。这种方式存在不足之处，一是由于整个清洗工艺过程中石英舟始终处于静止状态，且与清洗液之间没有相对运动，使石英舟因不能得到全面的清洗而使得清洗效果不佳，从而易造成扩散工艺过程的污染；二是由于石英舟较长，在对石英舟内壁所形成的有机材料进行酸清洗后，附着的酸液不易清洗，大量水冲，不但浪费水而且偶尔会有酸液残留；三是石英舟更换场地来回搬运易碎且不安全，而且还会造成时间和人工的大量浪费。

发明内容

本发明的目的在于克服传统技术中存在的上述问题，提供一种卧式石英舟清洗设备。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明是通过以下技术方案实现：

一种卧式石英舟清洗设备，包括清洗箱、驱动箱和电控箱，所述清洗箱的侧端固定有电控箱，顶端固定有驱动箱；所述清洗箱的内腔底部设有并排分布的水洗槽安装室和酸洗槽安装室，所述水洗槽安装室中安装有水洗槽，所述酸洗槽安装室中安装有酸洗槽；所述清洗箱、驱动箱的内部共同安装有能够实现石英舟工件在水洗槽、酸洗槽之间切换的机械手载具。

进一步地，上述卧式石英舟清洗设备中，所述水洗槽、酸洗槽均为开口位于上侧的开口槽，所述开口槽的底板内侧对称固定有两排支撑座，每排所述支撑座中转动支撑有一根支撑轴，所述支撑轴的轴体上固定有用于对放入其内的石英舟工件提供滚动支撑用的支撑辊轮。

进一步地，上述卧式石英舟清洗设备中，所述开口槽位于支撑轴的外围区域固定有喷淋管，所述开口槽的侧板靠近底部设有带开度阀的排液管。

进一步地，上述卧式石英舟清洗设备中，所述开口槽位于与支撑轴垂直的两侧板对称开设有环形轨座，所述环形轨座中安装有能够带动槽体水平位移以提高清洗效果的轨轮。

进一步地，上述卧式石英舟清洗设备中，所述机械手载具包括导向轨座、活动式龙门架、水平位移导向机构、水平位移驱动机构、竖向位移驱动机构和吊具组件，所述导向轨座共有两个且平行固定于清洗箱的顶部，所述活动式龙门架的底侧两端部分别与对应的导向轨座通过水平位移导向机构进行滑动连接，所述活动式龙门架的底部安装有能够带动其进行水平位移的水平位移驱动机构，所述活动式龙门架上对称设有两个能够独立动作的竖向位移驱动机构，所述活动式龙门架通过两个竖向升降机构共同安装有吊具组件。

进一步地，上述卧式石英舟清洗设备中，所述水平位移导向机构为由轨条和滑块构成的直线导轨副，所述滑块固定于活动式龙门架的底侧端部处，所述轨条固定于导向轨座上。