[发明专利]一种压低过长上颌后牙的活动装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110696104.0 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113303932A 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 周团锋;王新知 申请(专利权)人: 北京大学口腔医学院
主分类号: A61C7/00 分类号: A61C7/00;A61C7/08;A61C8/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 压低 过长 上颌 后牙 活动 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种压低上颌过长后牙活动装置,包括合支托(1)、卡环(2)、人工牙部分(3)和基托(4),其特征在于:

所述合支托(1),不需要进行牙体预备;使用过程中,与邻牙近缺隙侧边缘嵴完全贴合,呈尖指向缺隙远端的圆三角形;所述合支托(1)宽度为牙冠宽度的1/3,长度为牙冠长度的1/4,厚约1.5mm;

所述卡环(2),卡环(2)厚约1.0~1.5mm;使用过程中,颊侧卡环臂2/3位于基牙外形高点线上,卡环尖1/3位于基牙外形高点下起固位作用,舌侧卡环臂位于基牙外形高点线上;

所述人工牙部分(3)是树脂无尖人工牙,充填牙列缺损处天然牙的位置;所述人工牙部分(3)表面光滑,咬合面为平面,与咬合平面相平行,所述人工牙部分(3)的高度比垂直龈合距高1.0~1.5mm;

所述基托(4)部分,种植体通过牙槽嵴顶的基托(4)传导支持力至人工牙部分(3);使用过程中,所述基托(4)部分与牙槽嵴顶种植愈合基台及牙槽嵴颊舌侧紧密贴合,颊侧基托盖过牙槽嵴伸展至前庭沟底,舌侧到口底返折线,但不干扰颊舌运动。

2.根据权利要求1所述的压低上颌过长后牙活动装置,其特征在于:所述合支托(1)是铸造成型的。

3.根据权利要求1所述的压低上颌过长后牙活动装置,其特征在于:所述人工牙部分(3)采用光固化复合树脂。

4.一种采用如权利要求1所述的压低上颌过长后牙活动装置压低上颌后牙的方法,包括如下步骤:

(1)对颌磨牙下垂明显,种植下颌缺牙,骨结合ISQ值大于等于80,愈合基台高于牙龈1.0mm以上;

(2)所述压低上颌过长后牙活动装置设置在缺牙间隙;

(3)根据过长上颌后牙的压低量,在所述压低上颌过长后牙活动装置的人工牙部分(3)平面均匀添加光固化复合树脂,保证抬高咬合约1.0~1.5mm的咬合间隙。

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