[发明专利]集成硅基布拉格反射器的合分波器件及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110675194.5 申请日: 2021-06-17
公开(公告)号: CN113376748B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 陈寅芳;徐长达;陈少康;李明;祝宁华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴梦圆
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 集成 布拉格 反射 合分波 器件 制备 方法
【说明书】:

本公开提供了一种集成硅基布拉格反射器的合分波器件及制备方法,该器件包括:衬底;滤波用布拉格反射器,形成于衬底上,用于对输入光进行滤波;反射用布拉格反射器,形成于衬底上,用于对经滤波用布拉格反射器滤波的输出光进行反射;增透用布拉格反射器,形成于衬底上,用于对经反射用布拉格反射器反射的反射光进行透射。本公开提供的集成硅基布拉格反射器的合分波器件及制备方法,工艺流程简单,能够一次性大规模生产不同种类需求的合分波器件。

技术领域

本公开涉及波分复用技术领域,尤其涉及一种集成硅基布拉格反射器的合分波器件及制备方法。

背景技术

随着信息技术的发展,波分复用技术越来越引起人们的重视。在5G通信中,由于光纤资源的紧张,前传网络将采用多波长复用的方式进行信息的传递。而交换机端口以及机房的资源也日趋紧张,因此多通道的高速率光模块成为了满足构建前传网络的首选。

多通道的高速率光模块主要由特定波长的发射模块与接收模块组合而成。无论是发射模块还是接收模块,在进行封装的时候合分波器件必不可少。在光模块的制备中,常用的合分波器件有Z-block、阵列波导光栅等。而阵列波导光栅体积庞大,不能适用于QSFP(Quad Small Form-factor Pluggable,四路小型可插拔)模块的封装形式。在前传光模块中最主要应用的还是传统的Z-block器件。

在实现本公开构思的过程中,发明人发现相关技术中至少存在如下问题:现有技术中Z-block型的合分波器件制备过程繁琐,且产能受限。

发明内容

有鉴于此,本公开的主要目的在于提供一种集成硅基布拉格反射器的合分波器件及制备方法,以期至少部分地解决上述提及的技术问题之一。

本公开的一个方面提供了一种集成硅基布拉格反射器的合分波器件,包括:

衬底;

滤波用布拉格反射器,形成于上述衬底上,用于对输入光进行滤波;

反射用布拉格反射器,形成于上述衬底上,用于对经上述滤波用布拉格反射器滤波的输出光进行反射;

增透用布拉格反射器,形成于上述衬底上,用于对经上述反射用布拉格反射器反射的反射光进行透射。

根据本公开的实施例,上述滤波用布拉格反射器包括多个,其中,多个滤波用布拉格反射器沿直线排列。

根据本公开的实施例,上述反射用布拉格反射器包括多层堆叠的第一介质膜对;其中,上述第一介质膜对包括折射率不同的第一介质膜和第二介质膜。

根据本公开的实施例,上述反射用布拉格反射器中上述第一介质膜对的堆叠层数越多,上述反射用布拉格反射器的反射率越高。

根据本公开的实施例,上述增透用布拉格反射器或者上述滤波用布拉格反射器包括多层堆叠的第二介质膜对和半波层;

其中,上述第二介质膜对包括折射率不同的第三介质膜和第四介质膜;

其中,上述半波层包括第三介质膜或者第四介质膜;

其中,上述半波层形成于上述多层堆叠的第二介质膜对内。

根据本公开的实施例,上述第一介质膜对中的上述第一介质膜的厚度或者上述第二介质膜的厚度包括介质膜内光波长的四分之一;

上述第二介质膜对中的上述第三介质膜的厚度或者上述第四介质膜的厚度包括介质膜内光波长的四分之一。

根据本公开的实施例,上述第一介质膜对中的上述第一介质膜和上述第二介质膜包括硅基介质膜;

上述第二介质膜对中的上述第三介质膜或者上述第四介质膜包括硅基介质膜。

根据本公开的实施例,上述衬底包括硅片或石英玻璃。

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