[发明专利]一种新型光学加压无研具抛光装置

说明书

本发明提出了一种新型光学加压无研具抛光装置，主要包括电机驱动模块、密封罐模块、加压模块，本发明主要用于对光学零件进行抛光加工，其通过抛光液与被加工件之间的稳定相对运动达到抛光效果；具体的，被加工件在电机驱动下相对于抛光液同时做公转与自转运动，而通过对密封罐体内的具有磁流变性质的抛光液施加压力与磁场，使抛光液形成“软性磨盘”，从而产生可控、稳定且强烈的抛光作用；其优点在于不需要传统的抛光盘等研具，且可以适应任何形状的表面，而利用加压和磁场条件下被加工件相对于“软性磨盘”稳定运动产生的自收敛作用完成抛光，可对工件产生全覆盖与超光滑的加工效果，且不存在表面损伤，具有高效可控的特点。

技术领域

本发明属于机械加工技术领域，具体涉及一种新型光学加压无研具抛光装置。

背景技术

抛光是指利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工，其通过机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整的表面。机械零件往往需要达到一定的表面粗糙度，对于光学元件而言更是如此。传统的光学抛光过程大都需要抛光盘，而对于不同形状和尺寸的被加工件就需要定制不同的抛光盘，这无疑增加了抛光的时间和成本。同时，一台抛光设备往往只能在同一时刻对某一工件进行加工，而抛光盘也大都无法对工件产生全覆盖的加工效果，这无疑降低了抛光加工的效率。且传统抛光过程易在抛光盘处产生应力集中和局部高温，对工件表面和亚表面产生损伤。

稳定流动的河水里的鹅卵石往往拥有光滑的表面，含沙水流的抛光作用是其光滑表面形成的重要原因之一。同样的，如果抛光液与被加工件之间也产生类似的相对运动，被加工件的表面也将发生抛光作用，从而获得光滑的表面。但为了将该原理应用于生产实践，还需要进一步提高抛光效率和抛光质量。

发明内容

为了克服现有抛光装置需要定制抛光盘等研具以及损伤工件还有效率不高等问题，并结合自然界中鹅卵石等事物获得光滑表面的过程，本发明提出了一种在加压条件下利用抛光液相对被加工件稳定流动产生的高点去除作用进行抛光加工的装置。

本发明是采用以下技术方案实现的：

一种新型光学加压无研具抛光装置，其特征在于，包括电机驱动模块、密封罐模块、加压模块，所述加压模块通过软管与所述密封罐模块相连接；

所述电机驱动模块包括电机、磁力耦合器、旋转盘、旋转支架、工件安装盘以及保形填平板，所述电机驱动模块用于驱动被加工件相对于所述密封罐模块做旋转运动；

所述电机包括一个公转电机和至少一个自转电机，所述磁力耦合器包括一个公转磁力耦合器和至少一个自转磁力耦合器，所述公转电机与所述公转磁力耦合器下半部分对应连接，所述自转电机与所述自转磁力耦合器的下半部分一一对应连接；

所述公转磁力耦合器的下半部分固定安装在所述旋转盘的中心，所述公转磁力耦合器上半部分的转子与所述旋转支架相连接，所述公转磁力耦合器上半部分的定子固定安装于所述密封罐体底部；

所述自转磁力耦合器上半部分的转子与所述工件安装盘相连接，所述自转磁力耦合器上半部分的定子固定安装于所述旋转支架上；

所述保形填平板固定安装于所述旋转支架上，用于抑制所述抛光液在被加工件表面产生乱流运动；

所述密封罐模块包括密封罐体、密封盖、止流板、磁场生成装置、过滤器以及密封罐体内部的抛光液，所述抛光液为具有磁流变性质的抛光液；

所述磁场生成装置与所述过滤器均安装于所述密封罐体上，对被加工件的抛光加工发生在所述密封罐模块内；

所述止流板安装于所述密封盖内侧，所述止流板用于抑制所述抛光液相对于所述密封罐体的流动；

所述加压模块包括软管、压力生成器，所述软管的两端分别于与所述压力生成器以及所述密封盖上的进气装置相连接，所述加压模块为所述密封罐模块提供所需压力。

进一步地，所述自转电机分布在所述旋转盘外围，并通过自转电机固定板与所述旋转盘保持相对固定。