[发明专利]一种锰硅合金低钙渣型冶炼工艺

权利要求书

1.一种锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，低钙渣型冶炼指的是碱度为0.45-0.55之间的冶炼工艺，控制渣中二氧化钙含量在10％-16％，渣中二氧化硅含量需降低至29％-32％之间,其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：配料准备和入炉冶炼：配料包括锰矿配料和焦炭配料，把配料加入矿热炉中进行冶炼；

步骤2：矿热炉内的冶炼控制：在矿热炉内深插电极、强化电极压放、电极限位处于中下限位置控制、高电压操作和定期洗炉；深插电极能够提高渣铁过热度和改善渣铁分离效果，高电压操作能够提高二次电压、扩大熔池、稳定电极做功；

步骤3：出炉：采用双包出炉的工艺，出炉时采取开堵眼机开炉眼，炉眼打开后采用圆钢进行引流，加快出炉速度，缩短出炉时间；矿热炉需要勤换炉眼，减少堵眼打泥量；

步骤4：浇铸：出炉头包直接镇静30-40分钟，二包进行扒渣操作，扒完渣进行镇静30-40分钟；浇铸时先浇铸头包，头包浇铸至剩余1/5时将二包过到头包，进行镇静10分钟再浇铸，浇铸剩余包底时停止正常浇铸，包底铁单独在锭模上进行浇铸，经精整后入到成品中；

步骤中1中，锰矿配料包括按重量份计的如下成分：进口锰矿35-45份、南非半碳酸18-25份、南非高铁矿13-15份、自产渣10-15份、除尘灰压球6-8份；焦炭配料包括按重量份计的如下成分：粒度20-40mm的化工焦60-70份，粒度10-30mm的化工焦30-40份。

2.根据权利要求1所述的一种锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，焦炭配料中，粒度为20-40mm的化工焦占比60％-70％，粒度为10-30mm的化工焦占比30％-40％搭配冶炼。

3.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤2中，冶炼控制:包括强化电极压放、位移调整和电压使用，强化电极压放和位移调整能够提高过热度、改善渣铁分离的效果、防止炉内翻渣；电压采取高电压操作，较正常炉渣碱度控制下二次电压提高3-5V，增长弧光长度和强度，扩大熔池，防止电极裹渣造成做功不均衡，负荷给不足等异常情况。

4.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤2中，定期洗炉采取每10-15天进行一次洗炉，采用白云石、石灰石或者氯化钙进行洗炉，防止长时间低钙渣型冶炼下操作炉型缩小，使炉况恶化，指标退步。

5.根据权利要求3所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，高电压操作需要降低焦炭粒级，通过下插电极弥补碳量的不足。

6.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤3中，勤换炉眼，按一班一换眼或一炉一换眼更换。

7.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤3中，开堵眼机使用率100％，防止炉眼通道受到破坏，影响出炉。

8.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤4中，镇静工艺主要是利用比重差，让合金中游离的碳化物及浮渣充分上浮，提高合金质量。

9.根据权利要求1所述的锰硅合金低钙渣型冶炼工艺，其特征在于，步骤4中，包底铁单独浇铸要求包底剩余5％-7％时进行单独浇铸。