[发明专利]镀膜方法

说明书

本发明公开了一种镀膜方法，该镀膜方法包括：提供基材，在基材的第一面形成第一镀膜层，在第一镀膜层远离基材的一侧形成防污层，将基材的第一面固定于镀膜设备上，其中，防污层位于镀膜设备和基材之间，在基材与第一面相对的第二面形成第二镀膜层，去除防污层。本发明实施例通过在镀膜设备和已经形成第一镀膜层的基材之间增镀防污层，以更改基材第一面的特性，降低基材的粘合力度，避免残胶、胶印等残留到基材上，保证基材表面的干净。

技术领域

本发明实施例涉及镀膜工艺技术领域，尤其涉及一种镀膜方法。

背景技术

在基材镀膜过程中尤其是玻璃镜片双面增透过程中，目前行业一般采用单面覆粘结膜的方式将玻璃固定在镀膜机伞具上，然后进行镀膜。

但是，上述方式由于镀膜过程为真空，且具有一定的温度，此时粘结膜上的胶会脱落或转移到玻璃镜片上，容易造成大比例的残胶脏污不良，由于镀膜后的镀层具有高亲水特性，此时极难清洁干净，如果残胶脏污到了镀层内部，将无法进行清洁，进而影响玻璃镜片的显示效果。

发明内容

本发明提供一种镀膜方法，以保证镀膜完成后待镀基材表面的干净。

本发明实施例提供了一种镀膜方法，包括：

提供基材；

在所述基材的第一面形成第一镀膜层；

在所述第一镀膜层远离所述基材的一侧形成防污层；

将所述基材的第一面固定于镀膜设备上，其中，所述防污层位于所述镀膜设备和所述基材之间；

在所述基材与所述第一面相对的第二面形成第二镀膜层；

去除所述防污层。

可选的，所述在所述基材的第一面形成第一镀膜层之前包括：

在所述基材的第二面形成第一粘结膜层；

通过所述第一粘结膜层将所述基材固定于所述镀膜设备上；

在所述基材与所述第一面相对的第二面形成第二镀膜层之前还包括：

去除所述第一粘结膜层。

可选的，在所述去除所述第一粘结膜层之后，且在所述基材与所述第一面相对的第二面形成第二镀膜层之前包括：

将所述基材传输至擦拭设备内，对所述基材的第二面进行擦拭。可选的，所述防污层为防指纹膜层。

可选的，所述防污层的水滴角大于90度。

可选的，所述将所述基材的第一面固定于镀膜设备上包括：

在所述防污层远离所述基材的一侧形成第二粘结膜层；

通过所述第二粘结膜层将所述基材固定于所述镀膜设备上。

可选的，在所述基材与所述第一面相对的第二面形成第二镀膜层之后，且在去除所述防污层之前包括：

在所述第二镀膜层远离所述基材的第二面的一侧形成保护膜；

去除所述防污层之后还包括：

去除所述保护膜。

可选的，所述去除所述防污层包括：将所述基材传输至清洗设备，通过所述清洗设备去除所述防污层。

可选的，所述清洗设备为等离子清洗机。

可选的，在所述去除所述防污层之后包括：

将所述基材传输至擦拭设备，对所述基材的第一面和第二面进行擦拭。